北京科創(chuàng)鼎新真空技術(shù)有限公司主營：氦檢漏設備,氦質(zhì)譜檢漏儀,LNG抽真空設備

氦氣在在半導體中的檢漏作用

為了防止半導體器件、集成電路等元器件的表面因玷污水汽等雜質(zhì)而導致性能退化，就必須采用管殼來密封。但是在管殼的封接處或者引線接頭處往往會因為各種原因而產(chǎn)生一些肉眼難以發(fā)現(xiàn)的小洞，所以在元器件封裝之后，就需要采取某些方法來檢測這些小洞的存在與否。 氦氣檢漏就是采用氦氣來檢查電子元器件封裝管殼上的小漏洞。因為氦原子的尺寸很小，容易穿過小洞而進入到管殼內(nèi)部，所以這種檢測方法能夠檢測出尺寸很小的小洞（即能夠檢測出漏氣速率約為10?11～10?12cm3/sec的小洞），靈敏度可與性檢漏方法匹敵，但要比性檢漏方法簡便。

氦氣檢漏試驗的方法：首先把封裝好的元器件放入充滿氦氣的容器中，并加壓，讓氦氣通過小洞而進入管殼中；然后取出，并用壓縮空氣吹去管殼表面的殘留氦氣；接著采用質(zhì)譜儀來檢測管殼外表所漏出的氦氣。

氦質(zhì)譜檢漏儀是否有精度級別一說？

氦檢漏有真空法和正壓法，正壓法又分吸法和累積法等，各種方法對應的設備類型和檢測精度都不一樣。關于問的在空氣中已有氦氣的問題，并不太影響精度，因為氦檢漏是用對比法，先得有標準試樣，然后用測量結(jié)果跟標準試樣對比，來避免本底造成的誤差。質(zhì)譜儀有精度，到也跟測量方法非常相關。

壓力容器氦檢漏技術(shù)

什么是氦質(zhì)譜儀？

專門設計的把氦示蹤氣體進行檢漏的質(zhì)譜儀稱為氦質(zhì)譜檢漏儀。氦質(zhì)譜檢漏儀的原理是，當一個帶電質(zhì)點（正離子）以一定速度V進入均勻磁場的分析器中后，如果速度V的方向和磁場H的方向相垂直，它的運動軌跡為圓，不同質(zhì)合比（m/e）的粒子在磁場中有相應的運動軌跡，這樣，不同荷質(zhì)比的帶電粒子在磁場運動后會分開，如果在粒子運動路徑中安裝一塊擋板將其他粒子擋掉，而在氦粒子的運動路徑開一個狹縫而被接收極接收形成氦離子流，并經(jīng)過放大器放大而被測量儀指示出來。檢漏時，氦氣進入檢漏儀氦質(zhì)譜室中，使儀器發(fā)生靈敏的反應，產(chǎn)生檢漏的作用。

由于空氣中氦氣，氦質(zhì)譜儀的本底電流及噪音也很少，因此可將示漏氦氣的信號盡量放大而不怕空氣的影響，這樣可以測出極為弱小的訊號，從而檢出的漏孔；由于氦氣是惰性氣體，具有分子小，質(zhì)量輕，擴散快，穿透性強，響應快且穩(wěn)定，加之不起化學作用，不污染工件，操作安全等特點，導致使用氦質(zhì)譜檢漏儀技術(shù)（簡稱氦檢漏技術(shù)）日益受到重視。