真空電弧真空離子鍍膜機(jī)的技術(shù)原理是在冷陰極真空弧光放電理論的基礎(chǔ)上研究出來(lái)的。而通過(guò)分析冷陰極真空弧光放電理論可知，通過(guò)放電活動(dòng)中的“正離子電流機(jī)制”與“場(chǎng)電子發(fā)射機(jī)制”兩者間的相互影響與制約可實(shí)現(xiàn)電量遷移。那么于此放電活動(dòng)中的陰極物料需要大量蒸發(fā)，活動(dòng)產(chǎn)生的諸多蒸氣分子會(huì)生成一些正離子，這些離子能夠在陰極附近產(chǎn)生強(qiáng)電場(chǎng)，從而促進(jìn)影響電子觸發(fā)“場(chǎng)電子發(fā)射機(jī)制”，最終導(dǎo)致電子發(fā)射到真空環(huán)境。