ITO導(dǎo)電玻璃鍍膜前的清洗
ITO薄膜在基片上的附著強(qiáng)度不僅取決于薄膜與基片兩種材料本身的理化性能，還與基片表面的清潔和活化程度有關(guān)。經(jīng)過清洗處理的玻璃基片在進(jìn)入真空室進(jìn)行鍍膜之前，仍有可能受到環(huán)境中的塵埃和氣體分子的污染。為了獲得“實(shí)時”潔凈的表面，最好的辦法是進(jìn)行在線等離子清洗。

長期生產(chǎn)使用表明，經(jīng)過該清洗裝置在線清洗后所鍍的SiO2膜與ITO膜，薄膜的針孔率降低了二個數(shù)量級，薄膜與玻璃基片的附著力提高了5倍以上。
用人工方法產(chǎn)生的等離子體大致可分為高溫等離子體與低溫等離子體。高溫等離子體技術(shù)主要用于受控?zé)岷司圩兎磻?yīng)的研究。所謂低溫等離子體是指在這種等離子體中離子與中性粒子的溫度遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于電子的溫度而接近于或略高于環(huán)境溫度。低溫等離子體可以在較低的溫度下獲得高活性的物質(zhì)，因此特別適合于在各種材料科學(xué)和微電子工業(yè)中應(yīng)用于在低溫下的化學(xué)反應(yīng)?？梢院敛豢鋸埖卣f，如果沒有低溫等離子體就沒有現(xiàn)代的超大規(guī)模集成電路工藝(如：等離子體干法刻蝕氧等離子體去光刻膠，等離子體化學(xué)氣相沉積制備二氧化硅、氮化硅、非晶硅薄膜，等等)。等ITO導(dǎo)電玻璃的清洗ITO薄膜在基片上的附著強(qiáng)度不僅取決于薄膜與基片兩種材料本身的理化性能，還與基片表面的清潔和活化程度有關(guān)。經(jīng)過清洗處理的玻璃基片在進(jìn)入真空室進(jìn)行鍍膜之前，仍有可能受到環(huán)境中的塵埃和氣體分子的污染。為了獲得實(shí)時”潔凈的表面，最好的辦法是進(jìn)行在線等離子清洗。
長期生產(chǎn)使用表明，經(jīng)過該清洗裝置在線清洗后所鍍的SiO2膜與IO膜，薄膜的針孔率降低了二個數(shù)量級，薄膜與玻璃基片的附著力提高了5倍以上。
用人工方法產(chǎn)生的等離子體大致可分為高溫等離子體與低溫等離子體。高溫等離子體技術(shù)主要用于受控?zé)岷司圩兎磻?yīng)的研究。所謂低溫等離子體是指在這種等離子體中離子與中性粒子的溫度遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于電子的溫度而接近于或略高于環(huán)境溫度。低溫等離子體可以在較低的溫度下獲得高活性的物質(zhì)，因此特別適合于在各種材料科學(xué)和微電子工業(yè)中應(yīng)用于在低溫下的化學(xué)反應(yīng)?？梢院敛豢鋸埖卣f，如果沒有低溫等離子體就沒有現(xiàn)代的超大規(guī)模集成電路工藝(如：等離子體干法刻蝕氧等離子體去光刻膠，等離子體化學(xué)氣相沉積制備二氧化硅、氮化硅、非晶硅薄膜，等等)。等