微弧氧化技術及其膜層具有許多其他膜層無法比擬的優(yōu)點，總結如下： 
（1）孔隙率極低，從而微弧氧化膜具有抗腐蝕的性能及較好的絕緣性； 
（2）在溫度較高時會發(fā)生相變，相變后膜層的硬度、耐磨性提高； 
（3）可以改變操作工藝及控制電解液成分設計出滿足需求的氧化膜，增加了它的應用性能； 
（4）膜層直接在基底上生長，對于形狀復雜的構建仍然適用； 
（5）可以通過氧化時間來控制氧化層厚度，通過調整電壓或電流來調控孔徑的大?。?nbsp;
（6）反應速度較快，對環(huán)境要求極低，在自然常溫下就可以進行，操作工藝步驟少，方便批量生產(chǎn)； 
（7）大多數(shù)金屬材料都可以進行微弧氧化； 
（8）不會對周圍的環(huán)境造成污染。 
前文提到利用微弧氧化技術可以制備出具有不同功效的膜層，其應用領域主要表現(xiàn)為以下幾個方面：制備出的具有耐蝕性能的膜層多用于化學設備、建筑、管道等，制備出的具有耐磨性能的膜層多用于機械領域、發(fā)動機部件等，制備出的具有絕緣功能的膜層多用于儀器儀表等電子領域，還有一些膜層具有特定的功能性適用于光催化、醫(yī)療器材等領域。