科研實(shí)驗(yàn)專用氧化銦錫靶材ITO磁控濺射靶材電子束鍍膜蒸發(fā)料

產(chǎn)品介紹

       氧化鎵（Ga2O3）別名是三氧化二鎵，是一種寬禁帶半導(dǎo)體，Eg=4.9eV；不溶于水，微溶于熱酸或堿溶液，易溶于堿金屬氫氧化物和稀無(wú)機(jī)酸；有α，β兩種變體，α型為白色菱形六面體，熔點(diǎn)：1900℃(在600℃時(shí)轉(zhuǎn)化為β型)。用作高純分析試劑、用于電子工業(yè)半導(dǎo)體材料制備。它是一種透明的氧化物半導(dǎo)體材料，在光電子器件方面有廣闊的應(yīng)用前景 ，被用作于Ga基半導(dǎo)體材料的絕緣層，以及紫外線濾光片。它還可以用作O2化學(xué)探測(cè)器。

產(chǎn)品參數(shù)

中文名 氧化鎵           分子式 Ga2O3

分子量 187.44          熔點(diǎn) 1740℃

密度 5.88g/ml          純度 99.99%

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產(chǎn)品附件：發(fā)貨時(shí)產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝

適用儀器：多種型號(hào)磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備 

質(zhì)量控制：嚴(yán)格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測(cè)手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細(xì)小晶粒度；可提供質(zhì)檢報(bào)告。 

加工流程：熔煉→提純→鍛造→機(jī)加工→檢測(cè)→包裝出庫(kù)