濟南巴克超聲波科技有限公司主營：超聲波清洗設備,工業(yè)清洗設備,噴淋清洗機,碳氫清洗機

此方法適用于除去氧化膜或有機物。因為化學物質(zhì)在硅片表面停留的時間比較短，對反應需要一定時間的清洗效果不好。在噴洗過程中所使用的化學試劑很少，對控制成本及環(huán)境保護有利。

隨著集成電路制程工藝節(jié)點越來越先進，對實際制造的幾個環(huán)節(jié)也提出了新要求，清洗環(huán)節(jié)的重要性日益凸顯。

清洗的關鍵性則是由于隨著特征尺寸的不斷縮小，半導體對雜質(zhì)含量越來越敏感，而半導體制造中不可避免會引入一些顆粒、有機物、金屬和氧化物等污染物。為了減少雜質(zhì)對芯片良率的影響，實際生產(chǎn)中不僅僅需要提高單次的清洗效率，還需要在幾乎所有制程前后都頻繁的進行清洗，清洗步驟約占整體步驟的33%。

噴淋臂軸套存在且未受損：確保所有軸套、聯(lián)軸器、墊圈等存在且無任何裂痕或破損。

? 清洗劑/化學品輸送管道清晰、功能正常：目視檢查所有清洗劑等化學品輸送管道和連接端口：確保它們清晰，清潔，無阻塞、滯留空氣、扭結。管道上的磨損痕跡、破損或泄漏也應注意檢查。如果輸送管道有缺陷，則清洗液的濃度可能不正確從而使清洗循環(huán)無效。

旋轉(zhuǎn)噴淋清洗機過程中注意事項：

   1、升溫至清洗溫度才能將清洗劑放入清洗槽；

   2、將清洗劑均勻完全融化后才能投入清洗槽；

   3、只有等清洗機能正常工作，方可放入需清洗的零部件。

   4、清洗前的人工預處理：將清洗件的表面浮泥及重油先進行人工清除，盲孔、浮濁物特別區(qū)要加以細致處理。

   5、按照從大到小的順序，將臟面緊貼下部擺放，注意：零部件切勿重疊。

   6、每次清洗20分鐘后，取出零部件，檢查一下，若有表面浮濁物應人工處理下來，倒換方向繼續(xù)清洗，循環(huán)往復。

   7、超聲清洗后再用高壓水槍沖洗，把清洗件上殘留的污物近一步清除，達到清洗效果。