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店齡4年 · 企業(yè)認(rèn)證 · 北京市 北京華諾恒宇光能科技有限公司
主營產(chǎn)品： 掩膜板, 蒸鍍罩, 金屬mask, 狹縫片, 補(bǔ)強(qiáng)鋼片, 調(diào)整墊片, 叉指電極等
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微納科研掩膜板-鍍膜掩膜版非標(biāo)定制
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商品參數(shù)
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商品介紹
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材質(zhì) 不銹鋼、鎳、鉬
材質(zhì)厚度 0.05-3mm
加工精度 ±20um
加工面積 300*300mm
服務(wù)區(qū)域 全國
商品介紹
微納科研掩膜板 鍍膜掩膜版非標(biāo)定制
專注于生產(chǎn)精密五金、IT產(chǎn)品配件、打印機(jī)配件、汽車配件、電器配件及工藝品產(chǎn)品的加工，公司產(chǎn)品取得了客戶的一致認(rèn)可, 如:聯(lián)想、華為、中興、BYD、富士康、美泰、東芝、TCL、格力、美的、飛利浦等大客戶的認(rèn)可。
光學(xué)掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。
光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備，如激光直寫光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。
掩膜板特定產(chǎn)品材料材質(zhì):SUS304不銹鋼，SUS316不銹鋼，銅，合金等材料厚度(公制):0.1mm,0.15mm,0.18mm,0.2mm,0.25mm,0.3mm，0.4mm.等此款產(chǎn)品用途:掩膜板主要用于學(xué)校、科研所實驗。
此款產(chǎn)品特點:掩膜板孔線條均均，剌，無缺口，不會出現(xiàn)大小孔的現(xiàn)像，針對精密激光精密切割網(wǎng)產(chǎn)品，我們有的技術(shù)攻關(guān)團(tuán)隊，可以很好的幫助客戶解決相應(yīng)問題。產(chǎn)品價格評估:以材料材質(zhì)、產(chǎn)品要求的材料厚度、孔徑管控的精度要求，以及量產(chǎn)數(shù)量綜合評估。
理想的方式是提供工程圖給到我們，簡潔明了，可以及時回復(fù)相關(guān)評估。提供圖紙的同時，如果能提供大概用月用量或每批次的用量，相對來說，評估的價格更準(zhǔn)確，也更合理。我們激光精密切割加工能力:可以使用自動激光精密切割設(shè)備，大批量生產(chǎn)，每天生產(chǎn)高達(dá)500平方米，
針對小批量多樣化的產(chǎn)品，也可以半自動化的方式投產(chǎn)，節(jié)省相關(guān)作業(yè)成本，是大限度為客戶節(jié)省成本是我們的終目標(biāo)，實現(xiàn)雙贏!
專注于生產(chǎn)精密五金、IT產(chǎn)品配件、打印機(jī)配件、汽車配件、電器配件及工藝品產(chǎn)品的加工，公司產(chǎn)品取得了客戶的一致認(rèn)可, 如:聯(lián)想、華為、中興、BYD、富士康、美泰、東芝、TCL、格力、美的、飛利浦等大客戶的認(rèn)可。
光學(xué)掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并定位，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。
光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫式光刻設(shè)備，如激光直寫光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。
掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。
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天津公司位于天津西青區(qū)海泰發(fā)展二路
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