北京賽米萊德貿易有限公司
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Futurrex-半導體光刻膠公司-雙層光刻膠
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钳钼钹钺钳钹钼钼钹钻钼
20.有沒有光刻膠PC3-6000的資料嗎?
A PC3-6000并不是光刻膠,它是用在chip
on glass 上的膠粘劑。
21.是否有Wax替代品?
A PC3-6000可替代Wax做晶片和玻璃的固定,比較容易去除掉。
22.貴公司是否有粘接硅襯底和襯底的材料?
A 有,IC1-200就是
23.請問是否有不用HMDS步驟的正性光刻膠?
A 美國Futurrex 整個系列的光刻膠都不需要HMDS步驟,都可以簡化。
24.一般電話咨詢光刻膠,我們應該向客戶咨詢哪些資料?
A 1 需要知道要涂在什么材質上,2
還有要知道需要做的膜厚,3
還要知道光刻膠的分辨率
4還有需要正膠還是負膠,5
需要國產還是進口的
27.想找一款膜厚在120um,的光刻膠,有什么光刻膠可以做到啊!
A 以前有使用過美國有款光刻膠可以達到Futurrex
NR21-20000P ,。
28.有沒有了解一款美國Futurrex
NR9-250P的光刻膠,請教下?
A 這是一款負性光刻膠,濕法蝕刻使用的,附著力很好,耐100度的溫度,國內也有可以代理的公司,Futurre
光刻膠是世界第4大的電子化學品制造商,在光刻膠的領域有著不錯的聲譽,在太陽能光伏,和LED半導體行業(yè)都有不錯的市場占有率。
29.想找款膜厚的產品,進行蝕刻,有什么好推薦?
A 厚膜應用(thick
film applicati),主要是指高縱橫比(Aspect
ratios),高分辨率,高反差,有幾款產品向你推薦一下《NR4-8000P,NR2-20000P,NR5-8000,這些產品都需要用到邊膠清洗液》
的光刻
光刻膠的參數介紹
1.對比度(Contrast)
對比度指光刻膠從曝光區(qū)到非曝光區(qū)過渡的陡度。 對比度越好,越容易形成側壁陡直的圖形和較高的寬高比。
2.粘滯性/黏度 (Viscosity)
衡量光刻膠流動特性的參數。黏度通常可以使用光刻膠中聚合物的固體含量來控制。同一種光刻膠根據濃度不同可以有不同的黏度,而不同的黏度決定了該膠的不同的涂膠厚度。
3.抗蝕性(Anti-etching)
光刻膠必須保持它的粘附性,在后續(xù)的刻蝕工序中保護襯底表面。耐熱穩(wěn)定性、抗刻蝕能力和抗離子轟擊能力。
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光刻膠定義
光刻膠是一大類具有光敏化學作用(或對電子能量敏感)的高分子聚合物材料,是轉移紫外曝光或電子束曝照圖案的媒介。光刻膠的英文名為resist,又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應用于集成電路(IC),封裝(Packaging),微機電系統(tǒng)(MEMS),光電子器件光子器件(Optoelectronics/Photonics),平板顯示器(LED,LCD,OLED),太陽能光伏(Solar PV)等領域。
期望大家在選購光刻膠時多一份細心,少一份浮躁,不要錯過細節(jié)疑問。想要了解更多光刻膠的相關資訊,歡迎撥打圖片上的熱線電話!??!