北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品: 其他電工電氣輔材
Futurrex-干膜光刻膠品牌-透明光刻膠
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光刻膠介紹
光刻膠(又稱光致抗蝕劑),是指通過紫外光、準(zhǔn)分子激光、電子束、離子束、x射線等光源的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻材料。光刻膠具有光化學(xué)敏感性,其經(jīng)過曝光、顯影、刻蝕等工藝,可以將設(shè)計(jì)好的微細(xì)圖形從掩膜版轉(zhuǎn)移到待加工基片。因此光刻膠微細(xì)加工技術(shù)中的關(guān)鍵性化工材料,被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路的加工制作。生產(chǎn)光刻膠的原料包括光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹脂、單體和其他助劑等。
NR9-3000PY光刻膠
五、曝光
在這一步中,將使用特定波長(zhǎng)的光對(duì)覆蓋襯底的光刻膠進(jìn)行選擇性地照射。光刻膠中的感光劑會(huì)發(fā)生光化學(xué)反應(yīng),從而使正光刻膠被照射區(qū)域(感光區(qū)域)、負(fù)光刻膠未被照射的區(qū)域(非感光區(qū))化學(xué)成分發(fā)生變化。這些化學(xué)成分發(fā)生變化的區(qū)域,在下一步的能夠溶解于特定的顯影液中。
在接受光照后,正性光刻膠中的感光劑DQ會(huì)發(fā)生光化學(xué)反應(yīng),變?yōu)橐蚁┩?,并進(jìn)一步水解為茚并羧酸(Indene-Carboxylic-Acid, CA),羧酸在堿性溶劑中的溶解度比未感光部分的光刻膠高出約100倍,產(chǎn)生的羧酸同時(shí)還會(huì)促進(jìn)酚醛樹脂的溶解。利用感光與未感光光刻膠對(duì)堿性溶劑的不同溶解度,就可以進(jìn)行掩膜圖形的轉(zhuǎn)移。
曝光方法:
a、接觸式曝光(Contact Printing)掩膜板直接與光刻膠層接觸。
b、接近式曝光(Proximity Printing)掩膜板與光刻膠層的略微分開,大約為10~50μm。
c、投影式曝光(Projection Printing)。在掩膜板與光刻膠之間使用透鏡聚集光實(shí)現(xiàn)曝光。
d、步進(jìn)式曝光(Stepper)
NR77-20000PMSDS
光刻膠運(yùn)輸標(biāo)識(shí)及注意事項(xiàng)
標(biāo)簽上標(biāo)明的意思
R標(biāo)識(shí)
R10 YI燃。
S標(biāo)識(shí)
S16 遠(yuǎn)離火源-禁止吸煙。
S 24 避免接觸皮膚。
S 33對(duì)靜電放電采取預(yù)防措施。
S 9 將容器保持在通風(fēng)良好的地方。
水生毒性
通過自然環(huán)境中的化學(xué)、光化學(xué)和微生物降解來分解。一般不通過水解降解。300 ppm對(duì)水生生物是安全的。鹵化反應(yīng)可能發(fā)生在水環(huán)境中。