濟(jì)寧儒佳檢測儀器有限公司主營：超聲波測厚儀,超聲波探傷儀,磁粉探傷機(jī),觀片燈
測厚儀

測厚儀針對產(chǎn)品的關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域，本報(bào)告提供關(guān)鍵領(lǐng)域的詳細(xì)分析、每一個(gè)領(lǐng)域的關(guān)鍵消費(fèi)者（消費(fèi)者）及每一個(gè)領(lǐng)域的企業(yè)規(guī)模、市場份額及增長率。關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域包含：機(jī)械制造業(yè)工業(yè)化生產(chǎn)應(yīng)用生產(chǎn)制造制造行業(yè)電子器件產(chǎn)業(yè)鏈其他本報(bào)告此外分析國外地域的生產(chǎn)與消費(fèi)情況，關(guān)鍵地域包含歐美地區(qū)，歐洲，日本國，東南亞國家，印度尼西亞及中國等銷售市場。對比中國與全球銷售市場的現(xiàn)況未來發(fā)展方向。濟(jì)寧市儒佳測試儀器有限責(zé)任公司，服務(wù)到位，質(zhì)量確保，熱烈歡迎新老顧客前去資詢。

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鋼中縱波聲速具代表性的為5.900m/s（0.2320in/us），但是在漆層或類似涂層中聲速一般低于2.500m/s（0.1000in/us）。常規(guī)超聲設(shè)備在測量帶漆層金屬的總厚度時(shí)將錯(cuò)誤地以鋼的聲速測量涂層，這意味著涂層將顯示至少2.35倍（兩種聲速的比值）其真實(shí)厚度的值。在涉及厚涂層和緊公差的情況下，由涂層引入的這種誤差可以為總厚度測量的很大一部分。這個(gè)問題的解決方案是以這樣一種方法----從測量中將涂層成分去除----來測量或計(jì)算厚度。 回波―回波測量簡單地應(yīng)用了在兩個(gè)相鄰底面回波間的時(shí)間間隔的成熟技術(shù)，這個(gè)時(shí)間間隔代表了透過檢測材料的聲波的連續(xù)往返行程時(shí)間。在那些帶涂層金屬的情況中，這些多次回波只能發(fā)生在金屬中而不是涂層中，因此任何一對回波的間隔（底面回波1到2、底面回波2到3等），只代表了已去除涂層厚度后的金屬厚度。 透過涂層測量要使用一個(gè)磚利軟件來確定在涂層中一個(gè)往返行程代表的時(shí)間間隔。該時(shí)間間隔用于計(jì)算和顯示涂層厚度，并且通過從總測量值中減去該時(shí)間間隔，儀器也能計(jì)算和顯示金屬底層厚度。

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第二代儀器，采用的是“界面——回波”技術(shù).

即，事先剔除脈沖信號(hào)從晶振片開始到被測物表面的時(shí)間；

這種技術(shù)的出現(xiàn)，其目的本來是為了剔除“晶振片到探頭保護(hù)膜的距離”給測厚帶來的誤差，事實(shí)上，這個(gè)“距離”，與要測的厚度通常不在一個(gè)數(shù)量級(jí)上，因此，其適用性只在一個(gè)很窄的范圍內(nèi)才有意義。這種技術(shù)自本世紀(jì)初，在國外的儀器中開始有大量的應(yīng)用，但作為一種“權(quán)宜之計(jì)”的過渡技術(shù)，很快被跨越，不到五年的時(shí)間，就讓出了它的“優(yōu)越地位”。

第三代儀器，采用的是“回波——回波”技術(shù)。

即，以“次底面回波”和“第二次底面回波”的時(shí)間差為基礎(chǔ)來計(jì)算厚度；這種技術(shù)，與“界面——回波”技術(shù)有相同的地方，即，都不用考慮“晶振片到探頭保護(hù)膜的距離”帶來的測量誤差，但同樣，只在小范圍內(nèi)才有適用意義。

這種技術(shù)得以應(yīng)用，其更大意義在于：該技術(shù)改變了儀器的電路結(jié)構(gòu)，使得儀器可以給換能器（探頭）更大的能量、并能更好地分檢回波信號(hào)，因此，應(yīng)對“信號(hào)衰減”，采用這種技術(shù)的儀器比前兩代儀器有了質(zhì)的提升；也因此，“回波—回波”，成了迄今為止先進(jìn)超聲波測厚儀共同的技術(shù)基礎(chǔ)。

第四代儀器，采用的是“A掃描信號(hào)測厚”技術(shù)。

前面三代都是“讀數(shù)型測厚儀”，不管讀哪幾次波，*終都是靠事先設(shè)定的程序由儀器來判定和計(jì)算的。而“A掃測厚儀”則是將所有的信號(hào)都顯示在屏幕上，由操作者自行判斷、并且可以計(jì)算任意兩次波的時(shí)間差，也就是說，將測量的主動(dòng)權(quán)交給了操作者，這對于分析型測厚、以及雜波信號(hào)較多的測厚非常有幫助；

第五代儀器，采用的是單晶探頭。

前面四代測厚儀，使用的都是雙晶探頭（只有在超薄件測厚中，才有專門的機(jī)型使用高頻單晶探頭），而雙晶探頭，由于晶振片排列的結(jié)構(gòu)性因素，超聲波的傳遞呈現(xiàn)出一個(gè)“V”型路徑，這意味著，晶振片發(fā)射和接收信號(hào)的有效面積勢必受到“V”路徑的影響，也就是說，每個(gè)雙晶探頭的測厚范圍受晶振片直徑、晶振片斜角的影響較大。