Futurrex 半導(dǎo)體光刻膠品牌 水性光刻膠公司
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北京賽米萊德貿(mào)易有限公司

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商品參數(shù)
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商品介紹
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掩模尺寸 12μm
運輸方式 貨運及物流
縱橫比 4.5
膜厚 54μm
耐溫 150度
聚焦補(bǔ)償 -15μm
可售賣地 全國
曝光能量 1100 mJ/cm22
報價方式 按實際訂單報價為準(zhǔn)
產(chǎn)品編號 13980778
商品介紹
北京賽米萊德貿(mào)易有限公司主營:光刻膠




光刻膠市場

據(jù)統(tǒng)計資料顯示,2017年中國光刻膠行業(yè)產(chǎn)量達(dá)到7.56萬噸,較2016年增加0.29萬噸,其中,中國本土光刻膠產(chǎn)量為4.41萬噸,與7.99萬噸的需求量差異較大,說明我國供給能力還需提升。

國內(nèi)企業(yè)的光刻膠產(chǎn)品目前還主要用于PCB領(lǐng)域,代表企業(yè)有晶瑞股份、科華微電子。

在半導(dǎo)體應(yīng)用領(lǐng)域,隨著汽車電子、物聯(lián)網(wǎng)等發(fā)展,會在一定程度上增加對G線、I線的需求,利好G線、I線等生產(chǎn)企業(yè)。預(yù)計G線正膠今后將占據(jù)50%以上市場份額,I線正膠將占據(jù)40%左右的市場份額,DUV等其他光刻膠約占10%市場份額,給予北京科華、蘇州瑞紅等國內(nèi)公司及美國futurrex的光刻膠較大市場機(jī)會。


光刻膠國內(nèi)的研發(fā)起步較晚

光刻膠的研發(fā),關(guān)鍵在于其成分復(fù)雜、工藝技術(shù)難以掌握。光刻膠主要成分有高分子樹脂、色漿、單體、感光引發(fā)劑、溶劑以及添加劑,開發(fā)所涉及的技術(shù)難題眾多,需從低聚物結(jié)構(gòu)設(shè)計和篩選、合成工藝的確定和優(yōu)化、活性單體的篩選和控制、色漿細(xì)度控制和穩(wěn)定、產(chǎn)品配方設(shè)計和優(yōu)化、產(chǎn)品生產(chǎn)工藝優(yōu)化和穩(wěn)定、終使用條件匹配和寬容度調(diào)整等方面進(jìn)行調(diào)整。因此,要自主研發(fā)生產(chǎn),技術(shù)難度非常之高。

在光刻膠研發(fā)上,我國起步晚,2000年后才開始重視。近幾年,雖說有了快速發(fā)展,但整體還處于起步階段。事實上,工藝技術(shù)水平與國外企業(yè)有著很大的差距,尤其是材料及設(shè)備都仍依賴進(jìn)口。


光刻膠的核心參數(shù)是什么?

分辨率、對比度和敏感度是光刻膠的核心技術(shù)參數(shù)。隨著集成電路的發(fā)展,芯片制造特征尺寸越來越小,對光刻膠的要求也越來越高。光刻膠的核心技術(shù)參數(shù)包括分辨率、對比度和敏感度等。為了滿足集成電路發(fā)展的需要,光刻膠朝著高分辨率、高對比度以及高敏感度等方向發(fā)展。

以上就是為大家介紹的全部內(nèi)容,希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多光刻膠的知識,歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。



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