中性鹽霧試驗(yàn)項(xiàng)目簡(jiǎn)介 
      中性鹽霧試驗(yàn)（NSS：Neutral Salt Spray test）是在特定的試驗(yàn)箱內(nèi)，將含有(5士0．5)%、pH值為6.5～7.2的鹽水通過(guò)噴霧裝置進(jìn)行噴霧，讓鹽霧沉降到待測(cè)試驗(yàn)件上，經(jīng)過(guò)一定時(shí)間觀察其表面腐蝕狀態(tài)。試驗(yàn)箱的溫度要求在(35±2)℃，濕度大于95%，降霧量為1～2mL/(h·cm2)，噴嘴壓力為78.5～137.3kPa(0.8～1.4kgf/cm2)。
      中性鹽霧是以5%溶液作為腐蝕介質(zhì)，對(duì)樣品進(jìn)行海洋周邊環(huán)境氣候下的腐蝕性試驗(yàn)。中性鹽霧應(yīng)用比較廣泛，能夠適用與金屬及其合金、金屬覆蓋層、有機(jī)覆蓋層、陽(yáng)極氧化膜和轉(zhuǎn)化膜等。在鹽霧腐蝕三類(lèi)（NSS、AASS、CASS）中屬于腐蝕性弱的一種。
晶間腐蝕，局部腐蝕的一種。沿著金屬晶粒間的分界面向內(nèi)部擴(kuò)展的腐蝕。晶間腐蝕是金屬在適宜的腐蝕環(huán)境中沿著或緊挨著材料的晶粒間發(fā)生和發(fā)展的局部腐蝕破壞形態(tài)。晶間腐蝕從金屬材料表面開(kāi)始，沿著晶界向內(nèi)部發(fā)展，使晶粒間的結(jié)合力喪失，以致材料的強(qiáng)度幾乎完全消失。例如，飽受晶間腐蝕的不銹鋼材料，外表雖然還十分光亮，但輕輕敲擊可能碎成細(xì)粉。  在特定介質(zhì)條件下檢驗(yàn)金屬材料晶間腐蝕敏感性的加速金屬腐蝕試驗(yàn)方法，目的是了解材料的化學(xué)成分、熱處理和加工工藝是否合理。其原理是采用可使金屬的腐蝕電位處在恒電位陽(yáng)極極化曲線特定區(qū)間的各種試驗(yàn)溶液，利用金屬的晶粒和晶界在該電位區(qū)間腐蝕電流的顯著差異加速顯示晶間腐蝕。不銹鋼、鋁合金等的晶間腐蝕試驗(yàn)方法在許多國(guó)家均已標(biāo)準(zhǔn)化。各標(biāo)準(zhǔn)對(duì)試驗(yàn)細(xì)節(jié)均有詳細(xì)規(guī)定。

防止或減緩晶間腐蝕的措施
a．選用抗晶間腐蝕的合金；
b．選擇合適的熱處理工藝，如鋁合金過(guò)時(shí)效處理；
c．在確定焊接工藝，鋁合金膠接及銑切工藝，回避容易產(chǎn)生晶間腐蝕的溫度下處理。
晶間腐蝕指腐蝕主要發(fā)生在金屬材料的晶粒間界區(qū)，沿著晶界發(fā)展，即晶界區(qū)溶解速度遠(yuǎn)大于晶粒溶解速度。
條件
（1）晶粒和晶界區(qū)的組織不同，因而電化學(xué)性質(zhì)存在顯著差異?！獌?nèi)因
（2）晶粒和晶界的差異要在適當(dāng)?shù)沫h(huán)境下才能顯露出來(lái)?！庖?br>
不銹鋼常見(jiàn)腐蝕之晶間腐蝕
不銹鋼就是不容易生銹的鋼鐵，不銹鋼中的主要合金元素是Cr（鉻），只有當(dāng)Cr含量達(dá)到一定值時(shí)，鋼材有耐蝕性，不銹鋼一般Cr含量至少為10.5%。
不銹鋼的耐蝕機(jī)理為鈍化膜理論，即其表面形成一層極薄而堅(jiān)固細(xì)密的穩(wěn)定的富Cr鈍化膜，防止氧原子繼續(xù)滲入、繼續(xù)氧化，從而達(dá)到防銹蝕的能力。
不銹鋼表面鈍化膜形成圖解
人們認(rèn)為“不銹鋼是不生銹的，生銹的就不是不銹鋼了”。其實(shí)這是對(duì)不銹鋼缺乏了解的一種片面錯(cuò)誤看法，不銹鋼在一定的條件下也會(huì)生銹的。如果我們能夠直觀的了解不銹鋼的各種腐蝕類(lèi)型，面對(duì)不銹鋼腐蝕時(shí)可以有相應(yīng)的應(yīng)對(duì)措施來(lái)減少損失。下面結(jié)合工程實(shí)際講述幾種不銹鋼常見(jiàn)的腐蝕類(lèi)型，簡(jiǎn)要介紹相應(yīng)的抗腐蝕措施，并重點(diǎn)介紹不銹鋼應(yīng)力腐蝕原因及防治措施。
不銹鋼發(fā)生的腐蝕破壞多是局部腐蝕破壞，常見(jiàn)的有晶間腐蝕（9%）、點(diǎn)蝕（23%）和應(yīng)力腐蝕（49%）。

不僅是不銹鋼板，很多其他金屬均存在晶間腐蝕的傾向。但不銹鋼材料、含鉬鎳基合金和鋁合金等晶間腐蝕現(xiàn)象比較突出。假如存在應(yīng)力，就會(huì)由晶間腐蝕轉(zhuǎn)變成沿晶間應(yīng)力腐蝕破壞。從貧化理論角度出發(fā)，晶間腐蝕是因?yàn)榫Ы缥龀鲂孪?，?dǎo)致晶界附近某種成分出現(xiàn)缺乏。例如奧氏體不銹鋼在回火過(guò)程中過(guò)飽和碳部分或完全以Cr23C6形式在析出于晶界，會(huì)快速減少碳化物附近的碳和鉻濃度，使得晶界上產(chǎn)生貧鉻區(qū)，而貧鉻區(qū)作為陽(yáng)極會(huì)受到腐蝕。
對(duì)低碳與碳不銹鋼來(lái)講，是沒(méi)有碳化物在晶界析出導(dǎo)致貧鉻的條件。不過(guò)有實(shí)踐表明，低碳與碳不銹鋼，尤其是高鉻高鉬不銹鋼，在650-850℃受熱時(shí)，在強(qiáng)氧化介質(zhì)中，或其電位在過(guò)鈍化區(qū)時(shí)，也會(huì)產(chǎn)生晶間腐蝕。鐵素體不銹鋼在900℃之上時(shí)高溫區(qū)快冷容易發(fā)生晶間腐蝕。就算是碳氮含量極低的超純鐵素體不銹鋼也會(huì)出現(xiàn)晶間腐蝕。不過(guò)在700-800℃情況下重新加熱就能夠去除晶間腐蝕。
點(diǎn)蝕產(chǎn)生的主要特征有下列三個(gè)方面：
?    （1） 點(diǎn)蝕多發(fā)生于表面生成鈍化膜的金屬或表面有陰極性鍍層的金屬上（如碳鋼表面鍍錫、銅、鎳）。當(dāng)這些膜上某些點(diǎn)上發(fā)生破壞，破壞區(qū)域下的金屬基體與膜未破壞區(qū)域形成活化——鈍化腐蝕電池，鈍化表面為陰極而且面積比活化區(qū)大很多，腐蝕向深處發(fā)展形成小孔。
?    （2） 點(diǎn)蝕發(fā)生在含有離子的介質(zhì)中，如不銹鋼對(duì)鹵素離子特別敏感，其作用順序?yàn)镃l-＞Br-＞I-。
?    （3） 點(diǎn)蝕通常在某一臨界電位以上發(fā)生，該電位稱(chēng)作點(diǎn)蝕電位或擊破電位，又在某一電位以下停止，而這一電位稱(chēng)作保護(hù)電位或再鈍化電位。當(dāng)電位大于點(diǎn)蝕電位時(shí)，點(diǎn)蝕迅速發(fā)生、發(fā)展；電位在點(diǎn)蝕電位與保護(hù)電位之間時(shí)，已發(fā)生的點(diǎn)蝕繼續(xù)發(fā)展，但不產(chǎn)生新的蝕孔；電位在保護(hù)電位以下時(shí)，點(diǎn)蝕不發(fā)生，即不會(huì)產(chǎn)生新的孔蝕，已有的蝕孔將被鈍化不再發(fā)展。