東莞市大嶺山展立五金模具加工廠主營(yíng)：鍍鈦,沖棒鍍鈦,鍍鈦加工

鍍鈦廠家發(fā)現(xiàn)如果非讓真空鍍與水電鍍層兩個(gè)在一起的話，他們會(huì)互相削弱對(duì)方的功力，對(duì)方不能完全發(fā)揮出自己的實(shí)力，具體要怎么來(lái)說(shuō)呢?鍍鈦廠家分析后發(fā)現(xiàn)用真空鍍氮化膜做底色的，不銹鋼鍍鈦廠家發(fā)現(xiàn)那樣就會(huì)使能使用電鍍的的顏色比較少，這樣做會(huì)限制電鍍的顏色種類，通俗的說(shuō)就是會(huì)只有蝕刻面的的顏色的效果是顯現(xiàn)不出來(lái)的。

物理氣相沉積是真空條件下采用物理方法把欲涂覆物質(zhì)沉積在工件表面上形成膜的過(guò)程，通常稱為PVD（Physical Vapour Deition）法。在進(jìn)行PVD處理時(shí)，工件的加熱溫度一般都在600℃以下，這對(duì)于用高速鋼、合金模具加工鋼及其他鋼材制造的模具加工都具有重要意義。目前，常用的有三種物理氣相沉積方法，即真空蒸鍍、濺射鍍膜和離子鍍，其中，離子鍍?cè)谀＞呒庸ぶ圃熘械膽?yīng)用較廣。發(fā)展到目前，物理氣相沉積技術(shù)不僅可沉積金屬膜、合金膜、還可以沉積化合物、陶瓷、半導(dǎo)體、聚合物膜等。

物理氣相沉積技術(shù)基本原理可分三個(gè)工藝步驟：

(1)鍍料的氣化：即使鍍料蒸發(fā)，異華或被濺射，也就是通過(guò)鍍料的氣化源。

(2)鍍料原子、分子或離子的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過(guò)碰撞后，產(chǎn)生多種反應(yīng)。

(3)鍍料原子、分子或離子在基體上沉積。

認(rèn)識(shí)PVD物理氣相沉積技術(shù)

物理氣相沉積技術(shù)工藝過(guò)程簡(jiǎn)單，對(duì)環(huán)境改善，無(wú)污染，耗材少，成膜均勻致密，與基體的結(jié)合力強(qiáng)。該技術(shù)廣泛應(yīng)用于航空航天、電子、光學(xué)、機(jī)械、建筑、輕工、冶金、材料等領(lǐng)域，可制備具有耐磨、耐腐飾、裝飾、導(dǎo)電、絕緣、光導(dǎo)、壓電、磁性、潤(rùn)滑、超導(dǎo)等特性的膜層。

氣相沉積是一種在基體表面形成功能膜層的技術(shù)，它是利用物質(zhì)在氣相中產(chǎn)生的物理或(及)化學(xué)反應(yīng)而在產(chǎn)品表面沉積單層或多層的、單質(zhì)或化合物的膜層，從而使產(chǎn)品表面獲得所需的各種優(yōu)異性能。

氣相沉積作為一種表面鍍膜方法，其基本步驟有需鍍物料氣相化->輸運(yùn)->沉積。它的主要特點(diǎn)在于不管原來(lái)需鍍物料是固體、液體或氣體，在輸運(yùn)時(shí)都要轉(zhuǎn)化成氣相形態(tài)進(jìn)行遷移，終到達(dá)工件表面沉積凝聚成固相薄膜。