高溫爐具體用途

1、芯片焊接、金屬封裝、HTCC、DBC、VFD、PDP、汽車散熱器等產(chǎn)品在保護(hù)氣氛下的熔封、金屬化、釬焊、氧化、退火等熱處理工藝2、微波鐵氧體、磁性材料、先進(jìn)陶瓷、電子元件、粉末冶金產(chǎn)品等的預(yù)燒、燒結(jié)、共燒3、厚膜電路、厚膜電阻、電子元件電極、LTCC、鋼加熱器等類似產(chǎn)品的高溫?zé)Y(jié)、熱處理。(2)全反射型，主要是導(dǎo)電性能良好的金屬材料，這些材料對(duì)微波的反射系數(shù)接近于1，僅較少量的入射微波能透入，可用作微波加熱設(shè)備中的波導(dǎo)、微波腔體、攪拌器等。

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管式爐如何選擇工作溫度：

管式爐請(qǐng)注意有較高溫度（可維持1小時(shí)）和連續(xù)工作溫度（安全，連續(xù)使用溫度）較高工作溫度取決于所用的加熱元件，可分為四類

a.250～1250°C Fe－Cr－Al或Ni-Cr－Al合金加熱元件K型熱電偶

b.1300～1600°C SiC加熱元件S型熱電偶

c.1600～1800°C MoSi2發(fā)熱元件B型熱電偶

d.1800～2000°C石墨或W加熱元件C型熱電偶

管式爐清洗方法

管式爐常用清洗：通常的清洗方法分為物理清洗和化學(xué)清洗。

物理清洗通常使用機(jī)械力來壓碎爐管中的碳?xì)埩粑铮缓笫褂酶咚贇饬鞔党鎏荚@是爐管的平穩(wěn)流動(dòng)。 然而，物理清潔，一次清潔的距離是有限的，并且清潔時(shí)間將更長(zhǎng)并且更不方便。

化學(xué)清洗是通過化學(xué)反應(yīng)破壞碳?xì)埩粑锏慕Y(jié)構(gòu)或與碳?xì)埩粑锓磻?yīng)，達(dá)到清除殘留物的目的。 物理清潔的相對(duì)時(shí)間相對(duì)較短，可以一次清潔，更方便。