鉬圓鉬靶 廠家供應(yīng)鉬圓 Mo1鉬圓板濺射靶材旋轉(zhuǎn)靶

鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上

形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能

激光中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時(shí)，會(huì)產(chǎn)生不

同的殺傷破壞效應(yīng)。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材

（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。