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PVD的含義       

中文意思是“物理氣相沉積”，是指在真空條件下，用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。

PVD鍍膜和PVD鍍膜機(jī)

PVD(物理氣相沉積)鍍膜技術(shù)主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。對(duì)應(yīng)于PVD技術(shù)的三個(gè)分類，相應(yīng)的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)、真空濺射鍍膜機(jī)和真空離子鍍膜機(jī)這三種。

VD涂層的常見問題：

什么是陰極電弧PVD工藝？

陰極電弧PVD是使用電弧焊機(jī)從真空室內(nèi)的固體源材料蒸發(fā)各種金屬的過程。蒸發(fā)的金屬，例如鈦，鉻，鋯，鋁和各種其它合金，與氣體（通常是氮?dú)夂?或含碳?xì)怏w）反應(yīng)，形成冷凝在待涂覆部件上的涂層材料。

陰極電弧PVD產(chǎn)生高水平的金屬電離（超過95％），這有助于確保高度涂層對(duì)基板材料的粘附。該方法通常具有寬的操作窗口，使得可以使用各種工藝參數(shù)沉積涂層。其他涂層工藝，例如濺射或離子電鍍，不那么堅(jiān)固并且具有較小的操作窗口，使得它們更難以始終如一地生產(chǎn)高質(zhì)量的涂層。

涂裝前需要做哪些準(zhǔn)備工作？

為了獲得良好粘附的涂層，待涂覆的部件是清潔的非常重要。零件表面必須不含氧化物，EDM重鑄和有機(jī)薄膜，因?yàn)檫@些污染物會(huì)對(duì)涂層質(zhì)量產(chǎn)生不利影響。

為了在涂覆之前去除污染物，涂層公司使用諸如拋光，翻滾，酸蝕刻以及砂和玻璃珠噴射等技術(shù)。然而，這些技術(shù)中的一些可以改變被涂部件的表面光潔度，因此PVD涂層公司經(jīng)常與客戶合作開發(fā)滿足客戶對(duì)涂層質(zhì)量和部件外觀需求的工藝。

涂層過程會(huì)對(duì)鋒利邊緣產(chǎn)生不利影響嗎？

如果零件具有鋒利的邊緣，則不會(huì)使用可能對(duì)邊緣清晰度產(chǎn)生不利影響的清潔過程。此外，如果涂覆微小或非常脆弱的部件，可以進(jìn)行涂層工藝修改以降低加熱和涂層速率。這些改進(jìn)確保了精致的特征不會(huì)過熱并且涂層不會(huì)太厚。

什么表面處理可以獲得效果？

PVD涂層非常?。ㄍǔ?.0001至0.0005英寸），通常部件的原始表面（除非使用磨料清潔工藝）。零件表面光滑時(shí)獲得效果。因此，研磨或拋光表面通常會(huì)產(chǎn)生比噴砂或啞光表面處理更好的效果。

如果需要在零件的特定區(qū)域上進(jìn)行無光飾面，則允許涂布機(jī)在零件上生成紋理。零件供應(yīng)商的紋理可能會(huì)對(duì)零件的該區(qū)域產(chǎn)生污染，這需要一些返工，否定供應(yīng)商可能依賴的任何節(jié)省。

氣相沉積主要分為兩大類：

化學(xué)氣相沉積(ChemicalVaporDeition，簡(jiǎn)稱CVD)；

物理氣相沉積(PhysicalVaporDeition，簡(jiǎn)稱PVD)。

，人們利用易揮發(fā)的液體TiCI稍加熱獲得TiCI氣體和NH氣體一起導(dǎo)入高溫反應(yīng)室，讓這些反應(yīng)氣體分解，再在高溫固體表面上進(jìn)行遵循熱力學(xué)原理的化學(xué)反應(yīng)，生成TiN和HCI，HCi被抽走，TiN沉積在固體表面上成硬質(zhì)固相薄膜。人們把這種通過含有構(gòu)成薄膜元素的揮發(fā)性化合物與氣態(tài)物質(zhì)，在固體表面上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，且生成非揮發(fā)性固態(tài)沉積物的過程，稱為化學(xué)氣相沉積(ChemicalVaporDeition，CVD)。

同時(shí)，人們把另一類氣相沉積，即通過高溫加熱金屬或金屬化合物蒸發(fā)成氣相，或者通過電子、等離子體、光子等荷能粒子的能量把金屬或化合物靶濺射出相應(yīng)的原子、離子、分子(氣態(tài))，在固體表面上沉積成固相膜，其中不涉及到物質(zhì)的化學(xué)反應(yīng)(分解或化合)，稱為物理氣相沉積(PhysicalVaporDeition，PVD)。