東莞市大嶺山展立五金模具加工廠
主營產(chǎn)品: 五金表面處理加工, 模具鍍鈦, 五金產(chǎn)品鍍鈦
鉆頭鍍鈦加工-東莞鉆頭鍍鈦加工廠-鉆頭鍍鈦
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東莞市大嶺山展立五金模具加工廠
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蔣先生
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經(jīng)營模式
生產(chǎn)廠家
所在地區(qū)
廣東省東莞市
主營產(chǎn)品
氮化鈦通常都是金色,其工作的溫度可承受的高限度為580攝氏度,可以適應(yīng)于低溫涂層,0.23VSNi的摩擦系數(shù)可以有效的減少摩擦力,適合于低溫零件中使用,這種鍍鈦涂層工藝生產(chǎn)出來的精密零件,往往具有很好的耐磨性,較其他未氮化鈦涂層的金屬而言,更能夠承受腐蝕等不良環(huán)境的考驗(yàn),使用壽命較長,且氮化鈦用作鍍鈦涂層可有效的增強(qiáng)金屬的表面硬度,使金屬的耐磨性增強(qiáng),氮化鈦良好的導(dǎo)電性能能夠使產(chǎn)品適用于醫(yī)學(xué)、玻璃以及手飾等行業(yè)
PVD (物理) :PVD(Physical Vapor Deition),指利用物理過程實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移,將原子或分子由源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過程。它的作用是可以使某些有特殊性能(強(qiáng)度高、耐磨性、散熱性、耐腐性等)的微粒噴涂在性能較低的母體上,使得母體具有更好的性能。 PVD基本方法:真空蒸發(fā)、濺射 、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應(yīng)離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍)。
PVD是英文Physical Vapor Deition(物理氣相沉積)的縮寫,是指在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。
PVD技術(shù)出現(xiàn)于,制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。在高速具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了世界各國制造業(yè)的高度重視,人們在開發(fā)、高可靠性涂層設(shè)備的同時(shí),也在硬質(zhì)合金、陶瓷類刀具中進(jìn)行了更加深入的涂層應(yīng)用研究。與CVD工藝相比,PVD工藝處理溫度低,在600℃以下時(shí)對刀具材料的抗彎強(qiáng)度無影響;薄膜內(nèi)部應(yīng)力狀態(tài)為壓應(yīng)力,更適于對硬質(zhì)合金精密復(fù)雜刀具的涂層;PVD工藝對環(huán)境無不利影響,符合現(xiàn)代綠色制造的發(fā)展方向。當(dāng)前PVD涂層技術(shù)已普遍應(yīng)用于硬質(zhì)合金立銑刀、鉆頭、階梯鉆、油孔鉆、鉸刀、絲錐、可轉(zhuǎn)位銑刀片、車刀片、異形刀具、焊接刀具等的涂層處理。
隨著氣相沉積技術(shù)的發(fā)展和應(yīng)用,上述兩類型氣相沉積各自都有新的技術(shù)內(nèi)容,兩者相互交叉,你中有我,我中有你,致使難以嚴(yán)格分清是化學(xué)的還是物理的。比如,人們把等離子體、離子束引入到傳統(tǒng)的物理氣相沉積技術(shù)的蒸發(fā)和濺射中,參與其鍍膜過程,同時(shí)通入反應(yīng)氣體,也可以在固體表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng),生成新的合成產(chǎn)物固體相薄膜,稱其為反應(yīng)鍍。在濺射鈦(Ti)等離子體中通入反應(yīng)氣體N2后合成TiN就是一例。這就是說物理氣相沉積也可以包含有化學(xué)反應(yīng)。又如,在反應(yīng)室內(nèi)通入,借助于w靶陰極電弧放電,在Ar,W等離子體作用下使分解,并在固體表面實(shí)現(xiàn)碳鍵重組,生成摻W的類金剛石碳減摩膜,人們習(xí)慣上把這種沉積過程仍歸入化學(xué)氣相沉積,但這是在典型的物理氣相沉積技術(shù)——金屬陰極電弧離子鍍中實(shí)現(xiàn)的。另外,人們把等離子體、離子束技術(shù)引入到傳統(tǒng)的化學(xué)氣相沉積過程,化學(xué)反應(yīng)就不完全遵循傳統(tǒng)的熱力學(xué)原理,因?yàn)榈入x子體有更高的化學(xué)活性,可以在比傳統(tǒng)熱力學(xué)化學(xué)反應(yīng)低得多的溫度下實(shí)現(xiàn)反應(yīng),這種方法稱為等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(PlasmaAssistedChemicalVaporDeition,簡稱PACVD;有些資料稱之為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積,簡稱PECVD),它賦予化學(xué)氣相沉積更多的物理含義。
在今天,討論化學(xué)氣相沉積與物理氣相沉積的不同點(diǎn),恐怕只剩下用于鍍膜物料形態(tài)的區(qū)別,前者是利用易揮發(fā)性化合物或氣態(tài)物質(zhì),而后者則利用固相(或液相)物質(zhì)。這種區(qū)分似乎已失去原來定義的內(nèi)涵實(shí)質(zhì)。
我們?nèi)匀话凑找延械牧?xí)慣,主要以上述鍍料形態(tài)的區(qū)別來區(qū)分化學(xué)氣相沉積和物理氣相沉積,把固態(tài)(液態(tài))鍍料通過高溫蒸發(fā)、濺射、電子束、等離子體、離子束、激光束、電弧等能量形式產(chǎn)生氣相原子、分子、離子(氣態(tài),等離子態(tài))進(jìn)行輸運(yùn),在固態(tài)表面上沉積凝聚(包括與其他反應(yīng)氣相物質(zhì)進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成反應(yīng)產(chǎn)物),生成固相薄膜的過程稱為物理氣相沉積