東莞市大嶺山展立五金模具加工廠主營(yíng)：鍍鈦,沖棒鍍鈦,鍍鈦加工

近十多年來(lái)，真空離子鍍膜技術(shù)的發(fā)展是快的，它已經(jīng)成為當(dāng)今的表面處理方式之一。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說(shuō)的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。

PVD鍍膜技術(shù)的原理

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。

氮化鉻特性：高抗腐蝕性、摩擦系數(shù)低以及較高的耐溶接性，其具有的良好抗粘結(jié)性使其在容易產(chǎn)生積屑的加工中成為涂層。

適用：改善極其粘黏的材料上，塑膠模和粉末擠壓成型，鏍桿、有色金屬材料，復(fù)合纖維及特別銑削、加工銅、鋁產(chǎn)品的刀具。涂層顆粒細(xì)，工件表面涂層后可使膠料的流動(dòng)性更好以及塑料產(chǎn)品更易脫模，實(shí)現(xiàn)無(wú)摩擦排屑的極光滑表面，無(wú)論是蝕紋面，甚至要求極高的CD模具。

1.真空蒸鍍

真空蒸鍍是真空條件下在1.33x10-3至1.33x10-4Pa的壓力下，用電子束等熱源加熱沉積材料使之蒸發(fā)，蒸發(fā)的原子或分子直接在注塑加工件表面形成沉積層。但對(duì)于難熔的金屬碳化物和氮化物進(jìn)行直接蒸發(fā)是有困難的，并且有使化合物分解的傾向。為此，開(kāi)發(fā)了引入化學(xué)過(guò)程的反應(yīng)蒸鍍，例如，用電子槍蒸發(fā)鈦金屬，并將少量和等反應(yīng)氣體導(dǎo)入蒸發(fā)空間，使鈦原子和反應(yīng)氣體原子在工件表面進(jìn)行反應(yīng)，沉積TiC涂層。

真空蒸鍍多用于透鏡和反射鏡等光學(xué)元件、各種電子元件、塑料注塑加工制品等的表面鍍膜，在表面硬化方面的應(yīng)用不太多。