鍍層薄，但具有高度耐磨損，耐刮擦，不易劃傷。高硬度，低摩擦系數(shù)。不會(huì)改變基材本身的外觀，比如鏡面，拉砂紋，蝕刻紋，花紋，CD紋等不會(huì)覆蓋。 可以蝕刻出任何能夠想象出的設(shè)計(jì)圖案。 PVD膜層可鍍材料廣泛，與基體結(jié)合力強(qiáng)。 經(jīng)濟(jì)，可減少清洗和擦亮電鍍黃銅或金色所必須的時(shí)間和成本。高真空離子鍍膜技術(shù)——對(duì)人體和生態(tài)環(huán)境真正無(wú)害。對(duì)環(huán)境無(wú)害，避免化學(xué)，可以使用在內(nèi)裝修或者室外，膜層具有生物兼容性 用途廣泛，現(xiàn)在主要應(yīng)用于航空航天，耐高溫，高壓，抗磨損零件，刀具模具，日用五金，3C電子配件，建筑裝飾，電工電子，醫(yī)學(xué)等

東莞PVD的發(fā)展過(guò)程任何事物都有自己的發(fā)展過(guò)程從興起到高峰時(shí)期, 東莞PVD也不例外下面我們來(lái)介紹它發(fā)發(fā)展過(guò)程.     PVD技術(shù)出現(xiàn)于二十世紀(jì)七十年代末，制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數(shù)、很好的耐磨性和化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)。在高速具領(lǐng)域的成功應(yīng)用引起了世界各國(guó)制造業(yè)的高度重視，人們?cè)陂_發(fā)高性能、高可靠性涂層設(shè)備的同時(shí)，也在硬質(zhì)合金、陶瓷類刀具中進(jìn)行了更加深入的涂層應(yīng)用研究。

真空鍍膜包括：磁控濺射法,電弧離子鍍法等,如果在鍍膜過(guò)程中通入氮?dú)饪梢孕纬傻?鍍層顏色金黃色,否則白色.該方法鍍層薄,一般在15個(gè)微米左右,鍍層光亮不需要后續(xù)加工.噴涂的方法有冷噴涂法.涂層很厚可以達(dá)到毫米量級(jí),表面粗糙需要后續(xù)加工碳化鈦與氮化鈦鍍層的區(qū)別：顏色不同,碳化鈦（黑色）氮化鈦（金色）硬度不同,碳化鈦比氮化鈦硬度高,但抗高溫氧化性能碳化鈦不如氮化鈦,因此衍生出碳氮化鈦膜.近些年還比較流行的有氮化鈦鋁,氮化鉻膜等.在工藝上碳化鈦比氮化鈦工藝難一些,控制范圍更窄.