東莞市大嶺山展立五金模具加工廠主營：鍍鈦,沖棒鍍鈦,鍍鈦加工

PVD膜層抵抗力

·耐腐蝕，化學(xué)性能穩(wěn)定。

·抗酸

·在常規(guī)環(huán)境下，戶內(nèi)或者戶外，都，不褪色，不失去光澤并不留下痕跡?！ふ５氖褂们闆r下不會(huì)破損。

·不褪色。

·容易清除油漆和筆跡。

·在強(qiáng)烈的陽光，咸的濕地和城市環(huán)境下，都不失去光澤，不氧化，不褪色，不脫落和爆裂。

膜層顏色種類繁多，表面細(xì)膩光滑，富有金屬光澤，。

在烈日、潮濕等惡劣環(huán)境中不變色、不脫落，性能穩(wěn)定。

高度耐磨損，耐刮擦，不易劃傷。

可鍍材料廣泛，與基體結(jié)合力強(qiáng)。

高真空離子鍍膜技術(shù)——對人體和生態(tài)環(huán)境真正無害。

VD涂層的常見問題：

什么是陰極電弧PVD工藝？

陰極電弧PVD是使用電弧焊機(jī)從真空室內(nèi)的固體源材料蒸發(fā)各種金屬的過程。蒸發(fā)的金屬，例如鈦，鉻，鋯，鋁和各種其它合金，與氣體（通常是氮?dú)夂?或含碳?xì)怏w）反應(yīng)，形成冷凝在待涂覆部件上的涂層材料。

陰極電弧PVD產(chǎn)生高水平的金屬電離（超過95％），這有助于確保高度涂層對基板材料的粘附。該方法通常具有寬的操作窗口，使得可以使用各種工藝參數(shù)沉積涂層。其他涂層工藝，例如濺射或離子電鍍，不那么堅(jiān)固并且具有較小的操作窗口，使得它們更難以始終如一地生產(chǎn)高質(zhì)量的涂層。

涂裝前需要做哪些準(zhǔn)備工作？

為了獲得良好粘附的涂層，待涂覆的部件是清潔的非常重要。零件表面必須不含氧化物，EDM重鑄和有機(jī)薄膜，因?yàn)檫@些污染物會(huì)對涂層質(zhì)量產(chǎn)生不利影響。

為了在涂覆之前去除污染物，涂層公司使用諸如拋光，翻滾，酸蝕刻以及砂和玻璃珠噴射等技術(shù)。然而，這些技術(shù)中的一些可以改變被涂部件的表面光潔度，因此PVD涂層公司經(jīng)常與客戶合作開發(fā)滿足客戶對涂層質(zhì)量和部件外觀需求的工藝。

涂層過程會(huì)對鋒利邊緣產(chǎn)生不利影響嗎？

如果零件具有鋒利的邊緣，則不會(huì)使用可能對邊緣清晰度產(chǎn)生不利影響的清潔過程。此外，如果涂覆微小或非常脆弱的部件，可以進(jìn)行涂層工藝修改以降低加熱和涂層速率。這些改進(jìn)確保了精致的特征不會(huì)過熱并且涂層不會(huì)太厚。

什么表面處理可以獲得效果？

PVD涂層非常?。ㄍǔ?.0001至0.0005英寸），通常部件的原始表面（除非使用磨料清潔工藝）。零件表面光滑時(shí)獲得效果。因此，研磨或拋光表面通常會(huì)產(chǎn)生比噴砂或啞光表面處理更好的效果。

如果需要在零件的特定區(qū)域上進(jìn)行無光飾面，則允許涂布機(jī)在零件上生成紋理。零件供應(yīng)商的紋理可能會(huì)對零件的該區(qū)域產(chǎn)生污染，這需要一些返工，否定供應(yīng)商可能依賴的任何節(jié)省。

隨著氣相沉積技術(shù)的發(fā)展和應(yīng)用，上述兩類型氣相沉積各自都有新的技術(shù)內(nèi)容，兩者相互交叉，你中有我，我中有你，致使難以嚴(yán)格分清是化學(xué)的還是物理的。比如，人們把等離子體、離子束引入到傳統(tǒng)的物理氣相沉積技術(shù)的蒸發(fā)和濺射中，參與其鍍膜過程，同時(shí)通入反應(yīng)氣體，也可以在固體表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，生成新的合成產(chǎn)物固體相薄膜，稱其為反應(yīng)鍍。在濺射鈦(Ti)等離子體中通入反應(yīng)氣體N2后合成TiN就是一例。這就是說物理氣相沉積也可以包含有化學(xué)反應(yīng)。又如，在反應(yīng)室內(nèi)通入，借助于w靶陰極電弧放電，在Ar，W等離子體作用下使分解，并在固體表面實(shí)現(xiàn)碳鍵重組，生成摻W的類金剛石碳減摩膜，人們習(xí)慣上把這種沉積過程仍歸入化學(xué)氣相沉積，但這是在典型的物理氣相沉積技術(shù)——金屬陰極電弧離子鍍中實(shí)現(xiàn)的。另外，人們把等離子體、離子束技術(shù)引入到傳統(tǒng)的化學(xué)氣相沉積過程，化學(xué)反應(yīng)就不完全遵循傳統(tǒng)的熱力學(xué)原理，因?yàn)榈入x子體有更高的化學(xué)活性，可以在比傳統(tǒng)熱力學(xué)化學(xué)反應(yīng)低得多的溫度下實(shí)現(xiàn)反應(yīng)，這種方法稱為等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(PlasmaAssistedChemicalVaporDeition，簡稱PACVD；有些資料稱之為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積，簡稱PECVD)，它賦予化學(xué)氣相沉積更多的物理含義。

在今天，討論化學(xué)氣相沉積與物理氣相沉積的不同點(diǎn)，恐怕只剩下用于鍍膜物料形態(tài)的區(qū)別，前者是利用易揮發(fā)性化合物或氣態(tài)物質(zhì)，而后者則利用固相(或液相)物質(zhì)。這種區(qū)分似乎已失去原來定義的內(nèi)涵實(shí)質(zhì)。

我們?nèi)匀话凑找延械牧?xí)慣，主要以上述鍍料形態(tài)的區(qū)別來區(qū)分化學(xué)氣相沉積和物理氣相沉積，把固態(tài)(液態(tài))鍍料通過高溫蒸發(fā)、濺射、電子束、等離子體、離子束、激光束、電弧等能量形式產(chǎn)生氣相原子、分子、離子(氣態(tài)，等離子態(tài))進(jìn)行輸運(yùn)，在固態(tài)表面上沉積凝聚(包括與其他反應(yīng)氣相物質(zhì)進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成反應(yīng)產(chǎn)物)，生成固相薄膜的過程稱為物理氣相沉積