東莞市大嶺山展立五金模具加工廠主營：鍍鈦,沖棒鍍鈦,鍍鈦加工

鍍鈦處理工藝是使用多種材料的涂層技術(shù)，其加工溫度需保持在150攝氏度以上，但不能超過500攝氏度。鍍鈦不僅能使工具豐富多彩，也是工具達到一定硬度的效果，采用PVD技術(shù)，使工具具有優(yōu)異的性能。

鍍鈦是一種通用涂層加工工藝，很多人對于鍍鈦的主要特點不是很了解，那么，鍍鈦的主要特點是什么呢？

1、鍍鈦指的是在溫度較高的鈦金爐內(nèi)，將鈦、鋯等金屬除去空氣，同時憑借惰性氣體的輝光放電，讓所要涂層加工的金屬或合金蒸氣離子化，此時的離子經(jīng)電場加速，會不斷的堆積在負電荷的不銹鋼板上，于是便有了顏色十分豐富的金屬膜

物理氣相沉積，也叫PVD鍍鈦，在真空條件下，將金屬氣化成原子或分子，或者使其離子化成離子，直接沉積到工件表面，形成涂層的過程，稱為物理氣相沉積，其沉積粒子束來源于非化學(xué)因素，如蒸發(fā)鍍?yōu)R射鍍、離子鍍等。

真空法，這種方法是在高真空狀態(tài)下令材料氣化或離子化沉積于工件表面而形成鍍層的過程。

離子注入，他是高電壓下將不同離子注入工件表面令其表面改性的過程，稱為離子注入，如注硼等。

化學(xué)氣相沉積也叫CVD，低壓（有時也在常壓）下，氣態(tài)物質(zhì)在工件表面因化學(xué)反應(yīng)而生成固態(tài)沉積層的過程，稱為化學(xué)氣相鍍，如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。

什么是真空鍍膜設(shè)備？

真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過蒸發(fā)鍍膜設(shè)備+所鍍產(chǎn)品圖蒸發(fā)鍍膜設(shè)備+所鍍產(chǎn)品圖程，終形成薄膜。