東莞市大嶺山展立五金模具加工廠主營：鍍鈦,沖棒鍍鈦,鍍鈦加工

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術的主要特點和優(yōu)勢

和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點：

1．膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨

2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件

3．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效率高

4．可鍍膜層種類廣泛

5．膜層性能穩(wěn)定、安全性高（獲得FDA認證，可植入人體）

 PVD鍍膜（離子鍍膜）技術，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

面對這些嚴格要求，傳統(tǒng)的零件加工辦法和表面處理技術已經(jīng)達不到標準。經(jīng)過長時間的研發(fā)，鍍鈦解決了此類問題。鍍鈦廠表示鍍鈦不僅能夠滿足人們對于零件的耐磨性、抗腐蝕性、少耗損等等性能的要求，更解決了零件材料經(jīng)不住處于高溫的環(huán)境中的問題，成功保持了零件基本不會變形，硬度不會降低的狀態(tài)。鍍鈦廠表示色澤不會變化的PVD鍍膜也是鍍鈦的主要特點。和傳統(tǒng)的電鍍不同的是，鍍膜硬度較高，同時可以避免磨檫現(xiàn)象的發(fā)生，無剝落情況，高度防腐，所以PVD鍍膜不銹鋼總是可以很廣泛的被運用于眾多的裝飾行業(yè)。

什么是真空鍍膜設備？

真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過蒸發(fā)鍍膜設備+所鍍產(chǎn)品圖蒸發(fā)鍍膜設備+所鍍產(chǎn)品圖程，終形成薄膜。