北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品: 其他電工電氣輔材
彩色光刻膠公司-彩色光刻膠品牌-正負(fù)光刻膠公司-Futurrex
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經(jīng)營(yíng)模式
生產(chǎn)加工
所在地區(qū)
北京市大興區(qū)
主營(yíng)產(chǎn)品
光刻膠國(guó)際化發(fā)展
業(yè)內(nèi)人士認(rèn)為,按照現(xiàn)在“單打獨(dú)斗”的研發(fā)路徑,肯定不行。政府相關(guān)部門要加大產(chǎn)業(yè)政策的配套支持力度,應(yīng)從加快完善整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈出發(fā),定向梳理國(guó)內(nèi)缺失的、產(chǎn)業(yè)依賴度高的關(guān)鍵核心電子化學(xué)品,要針對(duì)電子化學(xué)品開發(fā)難度高,檢測(cè)設(shè)備要求高的特點(diǎn),組織匯聚一些優(yōu)勢(shì)企業(yè)和專家,形成一個(gè)產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟,國(guó)家建立一個(gè)生產(chǎn)應(yīng)用示范平臺(tái),集中力量突破一些關(guān)鍵技術(shù)。
江蘇博硯電子科技有限公司董事長(zhǎng)宗健表示,光刻膠要真正實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化,難度很大。問(wèn)題是國(guó)內(nèi)缺乏生產(chǎn)光刻膠所需的原材料,致使現(xiàn)開發(fā)的產(chǎn)品碳分散工藝不成熟、碳漿材料不配套。而作為生產(chǎn)光刻膠重要的色漿,至今依賴日本。前道工藝出了問(wèn)題,保證不了科研與生產(chǎn),光刻膠國(guó)產(chǎn)化就遙遙無(wú)期。因此,必須通過(guò)科研單位、生產(chǎn)企業(yè)的協(xié)同創(chuàng)新,盡快取得突破。
有專家提出,盡管國(guó)產(chǎn)光刻膠在面板一時(shí)用不起來(lái),但政府還是要從政策上鼓勵(lì)國(guó)內(nèi)普通面板的生產(chǎn)企業(yè)盡快用起來(lái)。只有在應(yīng)用過(guò)程中才能發(fā)現(xiàn)問(wèn)題,解決問(wèn)題,不斷提升技術(shù)、工藝與產(chǎn)品水平,實(shí)現(xiàn)我國(guó)關(guān)鍵電子化學(xué)品材料的國(guó)產(chǎn)化,完善我國(guó)集成電路的產(chǎn)業(yè)鏈,滿足國(guó)家和重點(diǎn)產(chǎn)業(yè)的需求。
光刻膠
光刻膠由光引發(fā)劑、樹脂、溶劑等基礎(chǔ)組分組成,又被稱為光致抗蝕劑,這是一種對(duì)光非常敏感的化合物。此外,光刻膠中還會(huì)添加光增感劑、光致產(chǎn)酸劑等成分來(lái)達(dá)到提高光引發(fā)效率、優(yōu)化線路圖形精密度的目的。在受到紫外光曝光后,它在顯影液中的溶解度會(huì)發(fā)生變化。
分類
根據(jù)光刻膠按照如何響應(yīng)紫外光的特性可以分為兩類。
正膠
曝光前對(duì)顯影液不可溶,而曝光后變成了可溶的,能得到與掩模板遮光區(qū)相同的圖形。
優(yōu)點(diǎn):分辨率高、對(duì)比度好。
缺點(diǎn):粘附性差、抗刻蝕能力差、高成本。
靈敏度:曝光區(qū)域光刻膠完全溶解時(shí)所需的能量
負(fù)膠egative
Photo Resist)
與正膠反之。
優(yōu)點(diǎn): 良好的粘附能力和抗刻蝕能力、感光速度快。
缺點(diǎn): 顯影時(shí)發(fā)生變形和膨脹,導(dǎo)致其分辨率。
靈敏度:保留曝光區(qū)域光刻膠原始厚度的50%所需的能量。
光刻膠相關(guān)信息
賽米萊德——專業(yè)光刻膠供應(yīng)商,我們?yōu)槟鷰?lái)以下信息。
光刻膠是印刷線路板、顯示面板、集成電路等電子元器件的上游。光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈覆蓋范圍非常廣,上游為基礎(chǔ)化工材料行業(yè)、精細(xì)化學(xué)品行業(yè),中游為光刻膠制備,下游為電子加工廠商、各電子器產(chǎn)品應(yīng)用終端。由于上游產(chǎn)品直接影響下游企業(yè)的產(chǎn)品質(zhì)量,下業(yè)企業(yè)對(duì)公司產(chǎn)品的質(zhì)量和供貨能力十分重視,常采用認(rèn)證采購(gòu)的模式,進(jìn)入壁壘較高。
在下游半導(dǎo)體、LCD、PCB等行業(yè)需求持續(xù)擴(kuò)大的拉動(dòng)下,光刻膠市場(chǎng)將持續(xù)擴(kuò)大。2018年全球光刻膠市場(chǎng)規(guī)模為85億美元,2014-2018年復(fù)合增速約5%。據(jù)IHS,未來(lái)光刻膠復(fù)合增速有望維持5%。按照下游應(yīng)用來(lái)看,目前半導(dǎo)體光刻膠占比24.1%,LCD 光刻膠占比26.6%,PCB 光刻膠占比24.5%,其他類光刻膠占比24.8%。