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高溫光刻膠-彩色光刻膠-固體光刻膠公司-Futurrex
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光刻膠由光引發(fā)劑、樹脂、溶劑等基礎組分組成,又被稱為光致抗蝕劑,這是一種對光非常敏感的化合物。此外,光刻膠中還會添加光增感劑、光致產酸劑等成分來達到提高光引發(fā)效率、優(yōu)化線路圖形精密度的目的。在受到紫外光曝光后,它在顯影液中的溶解度會發(fā)生變化。
分類
根據光刻膠按照如何響應紫外光的特性可以分為兩類。
正膠
曝光前對顯影液不可溶,而曝光后變成了可溶的,能得到與掩模板遮光區(qū)相同的圖形。
優(yōu)點:分辨率高、對比度好。
缺點:粘附性差、抗刻蝕能力差、高成本。
靈敏度:曝光區(qū)域光刻膠完全溶解時所需的能量
負膠egative
Photo Resist)
與正膠反之。
優(yōu)點: 良好的粘附能力和抗刻蝕能力、感光速度快。
缺點: 顯影時發(fā)生變形和膨脹,導致其分辨率。
靈敏度:保留曝光區(qū)域光刻膠原始厚度的50%所需的能量。
光刻膠介紹
光刻膠可分為半導體光刻膠、面板光刻膠和PCB光刻膠。其中,半導體光刻膠的技術壁壘較高。
從技術水平來看,在PCB領域,國產光刻膠具備了一定的技術和量產能力,已經實現對主流廠商大批量供貨。
賽米萊德以誠信為首 ,服務至上為宗旨。公司生產、銷售光刻膠,公司擁有強大的銷售團隊和經營理念。想要了解更多信息,趕快撥打圖片上的熱線電話!
光刻膠分類
根據化學反應機理和顯影原理的不同,光刻膠可以分為負性膠和正性膠。對某些溶劑可溶,但經曝光后形成不可溶物質的是負性膠;反之,對某些溶劑不可溶,經曝光后變成可溶的為正性膠。
從需求端來看,光刻膠可分為半導體光刻膠、面板光刻膠和PCB光刻膠。其中,半導體光刻膠的技術壁壘較高。
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