北京賽米萊德貿(mào)易有限公司
主營產(chǎn)品: 其他電工電氣輔材
厚光刻膠公司-玻璃光刻膠-Futurrex-半導(dǎo)體光刻膠
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光刻膠介紹
光刻膠自1959年被發(fā)明以來一直是半導(dǎo)體核心材料,隨后被改進運用到PCB板的制造,并于20世紀(jì)90年代運用到平板顯示的加工制造。終應(yīng)用領(lǐng)域包括消費電子、家用電器、汽車通訊等。
光刻工藝約占整個芯片制造成本的35%,耗時占整個芯片工藝的40%~60%,是半導(dǎo)體制造中核心的工藝。
以半導(dǎo)體光刻膠為例,在光刻工藝中,光刻膠被均勻涂布在襯底上,經(jīng)過曝光(改變光刻膠溶解度)、顯影(利用顯影液溶解改性后光刻膠的可溶部分)與刻蝕等工藝,將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上,形成與掩膜版完全對應(yīng)的幾何圖形。
光刻技術(shù)隨著IC集成度的提升而不斷發(fā)展。為了滿足集成電路對密度和集成度水平的更高要求,半導(dǎo)體用光刻膠通過不斷縮短曝光波長以極限分辨率,世界芯片工藝水平目前已跨入微納米級別,光刻膠的波長由紫外寬譜逐步至g線(436nm)、i線(365nm)、KrF(248nm)、 ArF(193nm)、F2(157nm),以及達到EUV(<13.5nm)線水平。
目前,半導(dǎo)體市場上主要使用的光刻膠包括 g 線、i 線、KrF、ArF四類光刻膠,其中,g線和i線光刻膠是市場上使用量較大的。KrF和ArF光刻膠核心技術(shù)基本被日本和美國企業(yè)所壟斷。
彩色薄膜少了光刻膠,產(chǎn)生不了絢麗的畫面
顯示器是人與機器溝通的重要界面。光刻膠是整個光刻工藝的重要部分,也是國際上技術(shù)門檻較高的微電子化學(xué)品之一,主要應(yīng)用在集成電路和平板顯示兩大產(chǎn)業(yè)。光刻技術(shù)決定了集成電路的集成度,技術(shù)節(jié)點的推進和實現(xiàn)。
章宇軒介紹,我們在日常工作生活中,之所以能從顯示屏幕上看到色彩斑斕的畫面,就是離不開屏幕中厚度只有2μm、卻占面板成本16%的一層彩色薄膜。然而,彩色薄膜顏色的產(chǎn)生,必須由光刻膠來完成。
LCD是非主動發(fā)光器件,其色彩顯示必須由本身的背光系統(tǒng)或外部的環(huán)境光提供光源,通過驅(qū)動器與控制器形成灰階顯示,再利用彩色濾光片產(chǎn)生紅、綠、藍三基色,依據(jù)混色原理形成彩色顯示畫面。
其中,根據(jù)顏色的不同,可以將光刻膠分為黑色、紅色、綠色、藍色四種。彩色濾光片的制作就是在玻璃基板上應(yīng)用黑色光刻膠制作黑色矩陣,再應(yīng)用紅、綠、藍光刻膠制作三原色像素。
光刻的工序
下面我們來詳細(xì)介紹一下光刻的工序:
一、清洗硅片(Wafer Clean)
清洗硅片的目的是去除污染物去除顆粒、減少其它缺陷,提高光刻膠黏附性
基本步驟:化學(xué)清洗——漂洗——烘干。
自1970年美國RCA實驗室提出的浸泡式RCA化學(xué)清洗工藝得到了廣泛應(yīng)用,1978年RCA實驗室又推出兆聲清洗工藝,近幾年來以RCA清洗理論為基礎(chǔ)的各種清洗技術(shù)不斷被開發(fā)出來,例如:美國FSI公司推出離心噴淋式化學(xué)清洗技術(shù)、美國原CFM公司推出的Full-Flow systems封閉式溢流型清洗技術(shù)、美國VERTEQ公司推出的介于浸泡與封閉式之間的化學(xué)清洗技術(shù)(例Goldfinger Mach2清洗系統(tǒng))、美國SSEC公司的雙面檫洗技術(shù)(例M3304 DSS清洗系統(tǒng))、 日本提出無藥液的電介離子水清洗技術(shù)(用電介超純離子水清洗)使拋光片表面潔凈技術(shù)達到了新的水平、以HF / O3為基礎(chǔ)的硅片化學(xué)清洗技術(shù)。