一、使用電離釋放型動態(tài)水處理系統(tǒng)的幾個理由     

 傳統(tǒng)處理循環(huán)冷卻水的方法主要是加入化學(xué)藥品來微生物生長和結(jié)垢，但因水中藥品和無機(jī)鹽隨水的蒸發(fā)而濃度增加，這樣須排放部分含藥和無機(jī)鹽的冷卻水，同時及時補(bǔ)充清潔水。傳統(tǒng)處理方法帶來的問題：系統(tǒng)用水量增加和大量排水，間接導(dǎo)致水費增加；微生物的抗藥性，要求及時地、適時地改變藥品；盡管如此，結(jié)垢問題、生物膜，軍團(tuán)菌三大問題還是不能解決。    

由冷卻塔等設(shè)備形成的循環(huán)冷卻水系統(tǒng)是軍團(tuán)菌容易生存、繁殖的場所之一，同時可借助冷卻風(fēng)機(jī)，將軍團(tuán)菌散布至都市各個角落，對人體產(chǎn)生ji大的危害之隱患。

二、循環(huán)冷卻水質(zhì)穩(wěn)定性判斷 

1、  飽和指數(shù)法：IL=Phe-PHs 式中IL-飽和指數(shù)（朗格利爾指數(shù)） 熱組為傳熱系數(shù)的倒數(shù) PHe-水的實例PH值 PHs-水的碳酸鈣飽和平衡時的PH值： （1）       當(dāng)IL＝PHe-PHs＞0時，水中的碳酸鈣處于飽和狀態(tài)，有結(jié)構(gòu)傾向。 （2）       當(dāng)IL＝PHe-PHs＝0時，水中的碳酸鈣剛好處于平衡狀態(tài)，不腐蝕、不結(jié)垢。 （3）       當(dāng)IL＝PHe-PHs＜0時，水中CO2過飽和，有腐蝕傾向。

2、  穩(wěn)當(dāng)指數(shù)法：IL＝2PHs-PHe 

3、  臨界PH值法 

4、  用試驗方法測得剛剛出現(xiàn)結(jié)垢時的水的PH值，稱為臨界PH值，用PHc表示。 動態(tài)離子群控制：PH值    電導(dǎo)率    濁度    鈣離子    鎂離子    軍團(tuán)菌                       微生物   總硬度    鋅離子  總鐵離子  正磷       總磷 離子群的簡寫：Cooperate  

三、動態(tài)離子群的控制原理       

在噴淋式冷卻塔中，軍團(tuán)菌易繁殖。軍團(tuán)菌也是一種非典型肺炎病菌，能在25-42℃水溫下迅速繁殖，這種病菌通常存在于空調(diào)冷卻塔，加濕器和冷熱水管道中，由飛灑的水滴和灰塵攜帶，通過建筑物的通風(fēng)系統(tǒng)和空調(diào)的新風(fēng)系統(tǒng)進(jìn)入室內(nèi)。 

磷酸鹽和聚合物類阻垢劑冷卻水系統(tǒng)在水高濃縮倍數(shù)下進(jìn)行，由于磷酸鹽會大量的附著在金屬的表面上，反而引起結(jié)垢的危害，并且，聚磷酸鹽會水解生成正磷酸鹽，生成磷酸鹽垢。后有磷酸鹽和聚合物類阻垢劑的復(fù)合藥劑，即使冷卻水被高度濃縮，仍能充分發(fā)揮緩蝕和阻垢效果。

1、沉淀形成過程 構(gòu)晶離子（飽和溶液）成核作用        成長              ｛聚集→無定開沉淀｝                                    →     晶核   →    沉淀微粒｛定向排列→晶形沉淀｝2、成核作用（晶核的形成）
（1）均相成核作用（自發(fā)成核）
         構(gòu)晶離子在過飽和溶液中由于靜電作用先形成離子對→離子群→晶核。
（2）異相成核作用（誘導(dǎo)成核）
         溶液中某些固體微粒、容器壁上的毛刺等起晶種作用，形成晶核（晶核數(shù)不變）。  表面吸附
      吸附層：優(yōu)先吸附構(gòu)晶離子 。
       擴(kuò)散層：優(yōu)先吸附與構(gòu)晶離子能形成溶解度小，離解度小的物質(zhì)的抗衡離子。當(dāng)C相近時，
      Z愈大，變形性愈大，越易被吸附；
       當(dāng)Z相同時，C愈大，越易被吸附。
      一般，某些陰陽離子被吸附的強(qiáng)度順序 1/2SO2-4＜CI-＜Br-＜I-＜SCN-＜OH- Li+＜Na+＜K+＜Rb+＜Cs+＜NH+4＜Mg2+＜Ca2+＜Ba2+＜AI3+＜Fe3+···＜H+  參數(shù)與功能要求
       過濾精度：1.0～8.0mm                   管道連接：GB法蘭
       離子置換率>90%                           濁度<21     PH   7~8
       總硬度<800mg/L                           設(shè)備承壓≤1.6mpa
        電流：Ac220v  50Hz                      溶縮倍數(shù)：6～8倍
        除垢：>99%                                  防垢：>99%
        除銹：>98%                                  水溫：0~80℃ 
        殺軍團(tuán)菌率>99%                           滅藻率>99%
        殺滅率>99%                           壓損<0.016Mpa
        c                                水頭損失：0.15～1.0m
        壓差范圍：28～310KPa                  電異率≤200us/cm
        防腐蝕率：<0.005毫米/年                腐蝕速度≤0.125mm／a(5mpy)
        色度≤80~100                                陰離子N03

四、電離釋放型動態(tài)水處理器技術(shù)參數(shù)