發(fā)熱保溫冒口在鑄件補縮工藝上的應(yīng)用

強化冒口補縮是防止鑄件產(chǎn)生收縮類缺陷的重要

工藝措施。統(tǒng)計表明,鑄件凝固后,普通冒口的縮孔體

積僅占冒口體積的10%～ 14%,真正用于補縮鑄件的只

占6%～ 10%[1]。保溫冒口可將冒口的補縮效率提高至

20%～ 25%[1,2]。集保溫與發(fā)熱于一體,構(gòu)成發(fā)熱保溫

冒口,可將冒口的補縮效率提高至45%[1]。鑄鋼件的金

屬補貼工藝也廣泛采用保溫補貼和發(fā)熱保溫補貼,并且

隨著保溫、發(fā)熱材料的開發(fā),保溫補貼和發(fā)熱保溫補貼

逐步取代了金屬補貼。這樣不僅提高鑄件的工藝出品

率和成品率,而且省去了切割金屬補貼工序,降低能耗,

避免因切割補貼可能產(chǎn)生的裂紋,以及凹凸不平的切痕

對后序加工的影響。本文介紹保溫冒口、發(fā)熱保溫冒口

及鑄鋼件的保溫補貼和發(fā)熱保溫補貼的應(yīng)用情況。

以珍珠巖取代稻草灰作鐵水的覆蓋劑,克服了原來使用稻草灰時的各種弊端,提高了鑄件質(zhì)量,大大改善了勞動條件。但是,在應(yīng)用中,珍珠巖覆蓋劑經(jīng)常會發(fā)生嚴重的粘包現(xiàn)象,清理困難。為此,有關(guān)單位研制成功了一種珍珠巖新品種——改性珍珠巖覆蓋劑。經(jīng)我廠三個鑄工車間的使用表明,這種改性珍珠巖覆蓋劑除了能消除粘包現(xiàn)象以外,與普通珍珠巖覆蓋劑相比,還具有以下優(yōu)點:1.使用前不需預(yù)熱。2.在鐵水表面能很快形成整體,不易隨鐵水澆入鑄型;在鐵水表面形成的膨化層厚度大,覆蓋性好

珍珠巖覆蓋劑鑄造業(yè)一直用稻草灰或石棉灰作鐵水覆蓋、除渣保溫材料。在澆注中覆蓋、保溫、除渣面小，易把渣澆入鑄型，操作灰塵彌漫，污染環(huán)境使用該產(chǎn)品對鐵水沒有化學(xué)成分影響，鑄件不發(fā)生夾渣現(xiàn)象。操作：除渣--鐵水包上有較多溶渣.用占鐵水量0.2%的珍珠巖保溫集渣覆蓋劑撒在水面上用渣耙翻動并扒渣。覆蓋：鐵水無渣后按0.3%珍珠巖保溫集渣覆蓋劑撒在水面上可形成40mm的保溫層，然后澆注鐵水。對于球鐵宜采用二次出鐵除渣法。球化劑覆蓋：用鐵水量0.2%的珍珠巖保溫集渣覆蓋劑覆蓋在球化劑上，可代替硅鐵粉和鐵扳延緩和減弱球化反應(yīng)，如用量過大造成球化不爆發(fā)，可用鐵棍桶球化劑引爆。

處理球墨鑄鐵時,用珍珠巖原礦粉作鐵水的覆蓋劑已被越來越多的鑄造車間所使用,但不能令人滿意的是,使用珍珠巖原礦粉極易粘包,在一定程度上影響了鐵水的球化效果。近來我們通過實驗,找到了一種防止珍珠巖粘包的辦法,具體做法是,在爐前球化處理時,每隔1～2包后,將稀土鎂合金放傳統(tǒng)的草木灰鐵水覆蓋劑在使用過程中,爐前煙塵很大,工作環(huán)境極為惡劣。聚渣、擋渣效果也不理想。珍珠巖鐵水覆蓋劑,雖改善了爐前工作環(huán)境,但粘包掛渣相當(dāng)嚴重,給清理修復(fù)工作帶來困難。在生產(chǎn)實踐中,我們將珍珠巖和沖天爐煙塵進行混合處理,研制成了混合型珍珠巖-煙塵鐵水覆蓋劑,取得了聚渣、擋渣、保溫、遮光、環(huán)境污染少、粘包掛渣輕等綜合效果。

問題的提出鑄件質(zhì)量比較差,廢品率偏高,是目前鑄造生產(chǎn)中普遍存在的一個突出問題。近年來國內(nèi)很重視提高鐵水的質(zhì)量,投入很大力量來研究試驗各種爐型結(jié)構(gòu)和供風(fēng)方式、參數(shù)等,以達到提高鐵水的出爐溫度和純凈度。而這些剛出爐的高溫鐵水,在澆入鑄型之前為了提高攀鋼IF鋼的品質(zhì),提升產(chǎn)品的市場競爭力,開展了高純凈IF冶金工藝技術(shù)研究。在對國內(nèi)外IF純凈鋼研究及生產(chǎn)現(xiàn)狀進行調(diào)研的基礎(chǔ)上,分析認為攀鋼開發(fā)高純凈IF鋼的限制性環(huán)節(jié)主要是脫硫、脫磷、脫碳、LF+RH精煉降低鋼水T[O]、鋼液增碳。為此,研究了鎂脫硫及鋼水RH深脫硫、鐵水預(yù)處理+轉(zhuǎn)爐深脫磷、RH脫碳工藝優(yōu)化、LF+RH精煉降低鋼水T[O]、中間包無碳覆蓋劑及結(jié)晶器無碳保護渣等工藝技術(shù)。全流程試驗表明,鑄坯[C]、[P]、[S]、[O]、[N]、[H]六大元素總量可控制在80×10-4%以內(nèi)。 結(jié)合攀鋼鐵水條件,探討了適宜的鎂脫硫劑鐵水深脫硫工藝,硫含量可由700×10-4%左右脫至7×10-4%,保證了入轉(zhuǎn)爐鋼硫含量要求。根據(jù)攀鋼IF鋼鋼液及鋼包渣的特點,實驗室研究了影響脫硫效果的因素,選擇了CaO-CaF2系脫硫劑用于RH-MFB深脫硫,脫硫率在40%～50%之間,脫后硫可控制10×10-4%以內(nèi)。