東莞市準(zhǔn)納光電科技有限公司
店齡5年 · 企業(yè)認(rèn)證 · 廣東省東莞市
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東莞市準(zhǔn)納光電科技有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品: 光學(xué)玻璃, 玻璃線(xiàn)紋尺
Nidek-晶片平坦度-翹曲度測(cè)量?jī)xFT-17-Nidek高精密平面度檢測(cè)儀
價(jià)格
訂貨量(臺(tái))
¥50000.00
≥1
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店齡5年 企業(yè)認(rèn)證
聯(lián)系人
錢(qián)云蕾
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専將將專尋専尊將射尊尋
所在地區(qū)
廣東省東莞市
主營(yíng)產(chǎn)品
Nidek 晶片平坦度/翹曲度測(cè)量?jī)xFT-17和FT-900(Si/Ge/GaAs/InP/SiC/LT/LN)
Nidek高精密平面度檢測(cè)儀, 適用于透明晶體物體(如藍(lán)寶石晶片等)和LED外延晶片、芯片的檢測(cè)。
其應(yīng)用不僅局限于對(duì)藍(lán)寶石襯底單面/雙面的表面平坦檢測(cè),而且更多地應(yīng)用于對(duì)外延之后,外延層表面品質(zhì)、TTV等的檢測(cè)和評(píng)估。
在電腦顯示屏上,它可自動(dòng)生成三維立體的表面彩色效果圖,以幫助人們清楚細(xì)微地、直觀地了解和掌握對(duì)象物表面層生長(zhǎng)的情況。
此外,它也適用于液晶電視屏幕面板所需要的大而平的圖形掩膜的檢測(cè)。
FT-17 Series | FT-900 Series | |||||
無(wú)解析 無(wú)顯示 | 帶解析 | 帶解析 (V2規(guī)格) | 無(wú)解析 無(wú)顯示 | 帶解析 | 帶解析 (V2規(guī)格) | |
測(cè)定方法 | 光波干涉方式(斜入射) | |||||
光源 | 半導(dǎo)體激光(655nm、3mW) | He-Ne激光(632.3A、5mW) | ||||
樣本尺寸 | 直徑130mm以下 (平坦度測(cè)定100mm以下) | 直徑200mm以下 | ||||
樣本厚度 | 2000um以下(根據(jù)測(cè)量承載臺(tái)不同,最大可達(dá)10mm),其他厚度需客戶(hù)另行協(xié)商 | |||||
樣本種類(lèi) | Wafer(Si、化合物、酸化物、玻璃)、金屬片、硬盤(pán)(鋁、玻璃)等鏡面和非鏡面(反射率低的非鏡面不可測(cè)試) | |||||
樣本傾斜角度 | 垂直方向傾斜8度 | 垂直或垂直方向傾斜8度 | ||||
干涉計(jì)設(shè)定敏感度 | 1、2、3、4、5u/紋理(下底面基準(zhǔn)時(shí)只有1、2um/紋理,且厚度1mm以上時(shí)1um/紋理) | |||||
測(cè)定范圍 | 紋理敏感度30倍(根據(jù)紋理狀況以及測(cè)試鏡頭倍率關(guān)系,有時(shí)不能達(dá)到30倍) | |||||
攝影鏡頭倍率 | 3倍以上 | |||||
顯示分解能 | 0.01um | 0.01um | ||||
重復(fù)精度 Repeatability:1б | 0.02S+0.02M(um) 條件:樣本設(shè)定后連續(xù)測(cè)試 S:紋理敏感度 M:測(cè)定值 | 0.02S+0.02M(um) 條件:樣本設(shè)定后連續(xù)測(cè)試 S:紋理敏感度 M:測(cè)定值 |
Nidek高精密平面度檢測(cè)儀, 適用于透明晶體物體(如藍(lán)寶石晶片等)和LED外延晶片、芯片的檢測(cè)。
其應(yīng)用不僅局限于對(duì)藍(lán)寶石襯底單面/雙面的表面平坦檢測(cè),而且更多地應(yīng)用于對(duì)外延之后,外延層表面品質(zhì)、TTV等的檢測(cè)和評(píng)估。
在電腦顯示屏上,它可自動(dòng)生成三維立體的表面彩色效果圖,以幫助人們清楚細(xì)微地、直觀地了解和掌握對(duì)象物表面層生長(zhǎng)的情況。
該產(chǎn)品目前已在國(guó)內(nèi)大手廠(chǎng)商中廣泛采用,特別是在外延片的品質(zhì)檢測(cè)方面。頗受好評(píng)。
據(jù)不完全統(tǒng)計(jì),至2012年底該產(chǎn)品已被國(guó)內(nèi)LED襯底和外延片80多家廠(chǎng)家所使用。
測(cè)試項(xiàng)目
吸附:GFLR、GF3D、GF3R、TV、GBIR、TAPER、TAng、SFLR、SFLD、SFQR、SF3R、SF3D、SBIR、SBID
非吸附:BOW、SORI、整體應(yīng)力、局部應(yīng)力
可測(cè)試晶片種類(lèi)
切割片、研磨片、拋光片、外延片、磊晶片
可選配光刻區(qū)域模擬軟件、應(yīng)力分析軟件等