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![深圳市延銘標(biāo)牌工藝有限公司](http://img3.dns4.cn/pic/71578/p375/20191105094107_1269_zs.jpg)
深圳市延銘標(biāo)牌工藝有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品: 金屬工藝品
深圳蝕刻喇叭網(wǎng)工藝制造-深圳蝕刻喇叭網(wǎng)
價(jià)格
訂貨量(件)
¥310.00
≥100
店鋪主推品 熱銷潛力款
専專尊尃尅尃将専尅将将
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深圳市延銘標(biāo)牌工藝有限公司
店齡6年
企業(yè)認(rèn)證
聯(lián)系人
廖小姐
聯(lián)系電話
専專尊尃尅尃将専尅将将
經(jīng)營(yíng)模式
生產(chǎn)加工
所在地區(qū)
廣東省深圳市
主營(yíng)產(chǎn)品
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蝕刻過(guò)程中應(yīng)注意的問(wèn)題
1. 減少側(cè)蝕和突沿﹐提高蝕刻系數(shù)
側(cè)蝕會(huì)產(chǎn)生突沿。 通常印制板在蝕刻液中的時(shí)間越長(zhǎng), 側(cè)蝕的情況越嚴(yán)重。 側(cè)蝕將嚴(yán) 重影響印制導(dǎo)線的精度﹐ 嚴(yán)重的側(cè)蝕將不可能制作精細(xì)導(dǎo)線。 當(dāng)側(cè)蝕和突沿降低時(shí)﹐蝕刻 系數(shù)就會(huì)升高﹐高蝕刻系數(shù)表示有保持細(xì)導(dǎo)線的能力﹐使蝕刻后的導(dǎo)線能接近原圖尺寸。蝕刻法與傳統(tǒng)的機(jī)械沖制方法相比,具有生產(chǎn)周期短(一般3天可以制造出產(chǎn)品),修改尺寸方便快捷的優(yōu)點(diǎn)。 無(wú)論是錫-鉛合金﹐錫﹐錫-鎳合金或鎳的電鍍蝕刻劑, 突沿過(guò)度時(shí)都會(huì)造成導(dǎo)線短路。
蝕刻過(guò)程中常見(jiàn)的問(wèn)題
蝕刻速率降低 蝕刻速率降低與許多因素有關(guān), 故需要檢查蝕刻條件 (例如﹕溫度、 噴淋壓力、 溶 液比重、 PH 值和氯化銨的含量等)﹐使其達(dá)到適宜的范圍。 蝕刻溶液中出現(xiàn)沈淀 是由于氨的含量過(guò)低(PH 值降低)﹐或水稀釋溶液等原因造成的 (例如:冷卻系統(tǒng)漏 水等)。 溶液比重過(guò)高也會(huì)造成沈淀。 抗蝕鍍層被浸蝕 是由于蝕刻液 PH 值過(guò)低或 CL 含量過(guò)高所造成的。主要查采用掩膜、蝕刻后處理三步進(jìn)行加工制做而成的凸字金屬標(biāo)牌或凹字金屬標(biāo)牌。 銅的表面發(fā)黑, 蝕刻不動(dòng) 蝕刻液中 NH4CL 的含量過(guò)低所造成的。
光刻和蝕刻技術(shù),用光膠、掩膜、和紫外光進(jìn)行微制造,由薄膜沉積,光刻和蝕刻 三個(gè)工序組成。 ? 光刻前首先要在基片表面覆蓋一層薄膜,薄膜的厚度為數(shù)埃到幾十微米,稱為薄膜 沉積。然后在薄膜表面用甩膠機(jī)均勻地覆蓋上一層光膠,將掩膜上微流控芯片設(shè)計(jì) 圖案通過(guò)曝光成像的原理轉(zhuǎn)移到光膠層的工藝過(guò)程稱為光刻。 ? 光刻的質(zhì)量則取決于光抗蝕劑(有正負(fù)之分)和光刻掩膜版的質(zhì)量。掩膜的基本功 能是基片受到光束照射(如紫外光)時(shí),在圖形區(qū)和非圖形區(qū)產(chǎn)生不同的光吸收和 透過(guò)能力。2、焊接前清除表面油污,減少焊縫形成的虛焊、氣孔、裂紋等缺陷。
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