什么是蝕刻標(biāo)牌？

蝕刻標(biāo)牌也叫腐蝕金屬標(biāo)牌。主要查采用掩膜、蝕刻后處理三步進(jìn)行加工制做而成的凸字金屬標(biāo)牌或凹字金屬標(biāo)牌。

標(biāo)識(shí)：可定義為在不同的時(shí)間和空間環(huán)境里，采取立、掛、吊、粘等安裝方式，有一定制作標(biāo)準(zhǔn)的質(zhì)地多樣的，通過(guò)文字圖形表達(dá)方位功能或信息功能的識(shí)別裝置。標(biāo)識(shí)蝕刻主要以標(biāo)示牌為主，表現(xiàn)形式也是各不相同，有的由于用于指示向?qū)В械挠糜诮煌ㄖ甘?，今天就和小編一起?lái)看看標(biāo)識(shí)蝕刻的世界吧。明顯地﹐設(shè)備的維護(hù)就是更換破損件和磨損件﹐因噴嘴同樣存在著磨損的問(wèn)題,所以更換時(shí)應(yīng)包括噴嘴。

蝕刻法，即通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)和蝕刻來(lái)加工金屬零件的一種工藝。該工藝充分利用當(dāng)前先進(jìn)的計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)技術(shù)，將需要加工的圖形制成菲林，然后將菲林圖形通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)復(fù)制到金屬材料表面，在金屬材料表面形成被保護(hù)起來(lái)的金屬零件圖形，再通過(guò)蝕刻的方法，把未保護(hù)的金屬材料蝕掉就產(chǎn)生出了金屬零件。所以﹐采用無(wú)銅的添加液來(lái)漂洗板子(第二次噴淋操作的方法)﹐可大大地減少銅的排出量。

蝕刻法與傳統(tǒng)的機(jī)械沖制方法相比，具有生產(chǎn)周期短（一般3天可以制造出產(chǎn)品），修改尺寸方便快捷的優(yōu)點(diǎn)。而機(jī)械沖制方法必須具備高精度的沖制設(shè)備和模具加工設(shè)備，開(kāi)發(fā)周期要2至3個(gè)月。

由于蝕刻法的特殊性，零件的復(fù)雜程度與加工難易程度無(wú)關(guān)。相對(duì)而言，機(jī)械沖制方法對(duì)復(fù)雜的零件處理起來(lái)往往會(huì)增加制造難度，有的甚至無(wú)法加工。蝕刻法制造僅需設(shè)計(jì)制作菲林（感光膠等），新品開(kāi)發(fā)費(fèi)用少；蝕刻法制造的金屬零件無(wú)毛刺，不改變材料的磁特性，加工后的產(chǎn)品平整度不受絲毫改變。有一項(xiàng)來(lái)自PCM工業(yè)系統(tǒng)但尚未正式發(fā)表的研究成果﹐相信其結(jié)果將會(huì)令人耳目一新。

1.6 蝕刻

可用兩種方法進(jìn)行蝕刻： A、電解法：電流 15－50A，電壓 3－5V，電解液：20%氯化銨、20%硫酸，陽(yáng)極用鈦板。電解過(guò)程中及時(shí)去掉陽(yáng)極上浮 留電解銅，以保證電流正常通過(guò)。 B、三氯化鐵法：選用較純的三氯化鐵泡成 30 波氏度溶液，流 動(dòng)腐蝕。同一個(gè)版面要達(dá)到深淺不同效果，要在頭次達(dá)到淺度要求 后，清洗表面，烘干。在已達(dá)到淺度蝕刻處涂上（印上）普通耐蝕刻 油墨，再行二次蝕刻。 1.7 除膜 將已蝕刻完畢的銅板放在水、 氫氧化鈉30∶1∶0.1 溶液 中加溫至 70℃除膜、清洗出光。最早可用來(lái)制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也廣泛地被使用于減輕重量(WeightReduction)儀器鑲板，銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工。 1.8 電鍍 除膜后的銅板圖案已經(jīng)很亮，很細(xì)，無(wú)須再行鍍亮銅，可直接 進(jìn)行鍍鎳 40－90 秒，再行鍍金、鍍銀。

蝕刻過(guò)程中常見(jiàn)的問(wèn)題

蝕刻速率降低 蝕刻速率降低與許多因素有關(guān), 故需要檢查蝕刻條件 (例如﹕溫度、 噴淋壓力、 溶 液比重、 PH 值和氯化銨的含量等)﹐使其達(dá)到適宜的范圍。 蝕刻溶液中出現(xiàn)沈淀 是由于氨的含量過(guò)低（PH 值降低）﹐或水稀釋溶液等原因造成的 (例如:冷卻系統(tǒng)漏 水等)。 溶液比重過(guò)高也會(huì)造成沈淀。 抗蝕鍍層被浸蝕 是由于蝕刻液 PH 值過(guò)低或 CL 含量過(guò)高所造成的。2、用不干膠紙需要蝕刻的圖案、文字外，并貼在標(biāo)牌上，將石蠟的酒精溶液涂覆在不干膠紙條以外的部分，并等酒精揮發(fā)，使石蠟附在標(biāo)牌上形成了保護(hù)膜。 銅的表面發(fā)黑, 蝕刻不動(dòng) 蝕刻液中 NH4CL 的含量過(guò)低所造成的。