貴金屬靶材尺寸

金、銀、鉑、鈀濺射靶材通過(guò)熔煉提純、澆鑄成錠，鍛造軋制和精密機(jī)加工制造而成。純度均可達(dá)到99.99%，主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、太陽(yáng)能光伏、平面顯示、磁學(xué)等行業(yè)。

釕、銠、銥濺射靶材采用高純金屬粉末為原料，通過(guò)粉末冶金鑄錠，并精密機(jī)加工成靶，產(chǎn)品純度可達(dá)99.95%。主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、磁學(xué)等行業(yè)。

常規(guī)靶材有：

高純金 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鉑 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鈀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純釕 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銠 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純銥 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

常規(guī)厚度1-6mm

可定制加工的圓靶方靶，可提供靶材綁定服務(wù)。

高純的單晶硅是重要的半導(dǎo)體材料。在單晶硅中摻入微量的第IIIA族元素，形成p型硅半導(dǎo)體;摻入微量的第VA族元素，形成n型半導(dǎo)體。p型半導(dǎo)體和n型半導(dǎo)體結(jié)合在一起形成p-n結(jié)，就可做成太陽(yáng)能電池，將輻射能轉(zhuǎn)變?yōu)殡娔?。在開發(fā)能源方面是一種很有前途的材料。另外廣泛應(yīng)用的二極管、三極管、晶閘管、場(chǎng)效應(yīng)管和各種集成電路(包括人們計(jì)算機(jī)內(nèi)的芯片和CPU)都是用硅做的原材料。目前自有的生產(chǎn)設(shè)備主要有真空中/高頻感應(yīng)熔煉爐、磁懸浮熔煉爐、非自耗真空電弧爐、真空燒結(jié)爐、真空熱壓爐、高溫?zé)Y(jié)爐、氣氛燒結(jié)爐、氣相合成爐、冷壓成型機(jī)、真空鍛軋?jiān)O(shè)備、車床、磨床、銑床、鉆床、沖床，線切割等各種材料成型及機(jī)械加工設(shè)備。

鎳合金可應(yīng)用于以下行業(yè):

1.熱處理工業(yè)。如爐輥、鐘式爐及退火爐等。

2. 煅燒爐。如用其來(lái)煅燒生產(chǎn)高性能剛玉，煅燒鉻鐵礦，以生產(chǎn)鉻鐵合金，回收在石油化工中用作催化劑的鎳。誠(chéng)霖鎳合金帶

3.化工和石油化工，用其制備新的蒸汽裂化粗油爐，以生產(chǎn)氫等。

4.自動(dòng)化裝置。如催化支撐系統(tǒng)，火花塞。

5.核工業(yè)用清洗設(shè)備，如核廢料清除。

6.鋼鐵工業(yè)。如直接還原鐵礦石工藝，生產(chǎn)海綿鈦。