玻璃手機(jī)鏡片性能

玻璃類產(chǎn)品主要為超薄玻璃（0.4-2.0mm厚），經(jīng)過玻璃開片、仿型磨邊、拋光、硬化、超聲清洗、真空鍍膜、絲印等一系列特殊加工工藝制作而成的產(chǎn)品。它具有美化裝飾和保護(hù)的功能。目前產(chǎn)品對象主要為手機(jī)（LENS）鏡片、MP3鏡片等小尺寸產(chǎn)品。

1)產(chǎn)品性能

A、極好的表面光潔度；

B、極高的表面硬度和超強(qiáng)的抗劃傷能力；

C、較好的表面強(qiáng)度；

D、標(biāo)準(zhǔn)的尺寸控制；

E、具有極好的金屬視覺效果。

F:表面硬度高，莫氏硬達(dá)8H，耐劃傷，透光度良好.

2)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)：

平片、卜面、單橋、雙橋、批花、異形等

3）產(chǎn)品表面處理：

真空鍍膜、絲印、鐳射、幻彩、鍍金剛膜、AR膜、AF膜、AS膜特殊工藝為生產(chǎn)特色

化學(xué)蝕刻（Chemical etching）-- 氣態(tài)物質(zhì)（中性原子團(tuán)）與表面反應(yīng)， 產(chǎn)物必定易揮發(fā)，也稱為等離子蝕刻。 等離子增強(qiáng)蝕刻(Ion-enhanced etching)—單獨(dú)使用中性原子團(tuán)不能形成易揮發(fā)產(chǎn)物，具有一定 能量的離子改變襯底或產(chǎn)物；具有一定能量的離子改變襯底或產(chǎn)物層，這樣，化學(xué)反應(yīng)以后 能生成揮發(fā)性物質(zhì)，亦稱為反應(yīng)離子蝕刻（RIE） 。 濺射蝕刻（Sputter etching）--具有一定能量的離子機(jī)械的濺射襯底材料。 蝕刻速率（Etch rate）--材料的剝離速率，通常以?/min，?/sec，nm/min, um/min 為單位計(jì) 量。 各向同性蝕刻（ Isotropic etch）-- 蝕刻速率在所有方向都是相同的。

一、二槽酸液蝕刻 Glass 材料時(shí)設(shè)置的溫度、速度、需根據(jù)酸液的濃度及材料導(dǎo)電層附著力的強(qiáng)弱而調(diào)節(jié),以能完 全蝕刻、不短路為原則并配合堿段的參數(shù)； b.同時(shí)生產(chǎn)前需做首件檢測原材料方阻,方阻需在要求范圍之內(nèi)才可正常生產(chǎn)； c.兩槽酸液流量要適中范圍； d.如出現(xiàn)刻不斷等其它的現(xiàn)象時(shí)請優(yōu)先調(diào)整各階段的速度以 1.5 為基準(zhǔn)往上調(diào)或往下調(diào)； e.酸槽的速度必須小于不等于堿槽的速度。 （2）堿洗、脫膜(Glass)