高純金屬材料介紹

高純金屬材料是指化學(xué)純度高、雜質(zhì)含量少、與常規(guī)金屬相比具有優(yōu)異的物理化學(xué)性能的新材料，被認(rèn)為是現(xiàn)代高新技術(shù)發(fā)展的基礎(chǔ)，是衡量一個(gè)國家或地區(qū)高新技術(shù)發(fā)展水平的重要指標(biāo)。蒸發(fā)作為PVD技術(shù)的一種，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)中的芯片背面金屬化工藝，中諾新材（北京）科技有限公司作為專業(yè)的PVD薄膜材料供應(yīng)商，可以提供各種規(guī)格的全系列高純金屬蒸發(fā)材料。由于高純材料具有優(yōu)異的物化性能，在半導(dǎo)體、光電學(xué)、電子信息、航天軍等領(lǐng)域應(yīng)用越來越廣泛。

中諾新材專業(yè)生產(chǎn)加工高純金屬靶材，粉末，顆粒等，并可根據(jù)您的需求提供專業(yè)的定制服務(wù)。

貴金屬靶材尺寸

金、銀、鉑、鈀濺射靶材通過熔煉提純、澆鑄成錠，鍛造軋制和精密機(jī)加工制造而成。純度均可達(dá)到99.99%，主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、太陽能光伏、平面顯示、磁學(xué)等行業(yè)。

釕、銠、銥濺射靶材采用高純金屬粉末為原料，通過粉末冶金鑄錠，并精密機(jī)加工成靶，產(chǎn)品純度可達(dá)99.95%。主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、磁學(xué)等行業(yè)。

常規(guī)靶材有：

高純金 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鉑 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鈀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純釕 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銠 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純銥 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

常規(guī)厚度1-6mm

可定制加工的圓靶方靶，可提供靶材綁定服務(wù)。

質(zhì)量管控2

公司生產(chǎn)工藝和操作規(guī)程，從產(chǎn)品的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售、服務(wù)各個(gè)環(huán)節(jié)都嚴(yán)格確保符合ISO9001國際質(zhì)量體系的要求。

所有員工均接受專業(yè)技能培訓(xùn)和職業(yè)素質(zhì)教育

公司定期進(jìn)行員工專業(yè)技能的考核。

全程電子掃描槍系統(tǒng)

公司所有產(chǎn)品、設(shè)備、人員均有自己的ID，產(chǎn)品制造全過程使用Bar Code掃描。

尺寸檢測(cè)自動(dòng)化

通過自動(dòng)編程，設(shè)備可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)檢測(cè)。