化合物濺射靶材

中諾新材（北京）科技有限公司可以定制加工不同尺寸，不同純度的二元，三元，多元化合物濺射靶材

氧化物靶材Al2O3 MgO Fe2O3 Fe3O4 Ga2O3 Nb2O5 NiO TiO2 ZnO ZrO……

氮化物靶材AlN BN Si3N4 TaN TiN……

碳、硫化物靶材BC SiC WC MoS2 WS2 CdS ZnS Bi2S3 ……

二元化合物靶材ITO AZO TZO GZO IGZO Bi2Se3 Bi2Te3……

多元化合物靶材CIGS PZT BST LSMO……

以上產(chǎn)品純度，99.5-99.99%，可定制不同比例摻雜靶材，可提供圓靶，矩形靶。并且可提供靶材焊接綁定服務(wù)

電子束蒸發(fā)靶材

中諾新材（北京）科技有限公司可提供種類齊全的熱蒸發(fā)靶材，電子束蒸發(fā)靶材，標(biāo)準(zhǔn)顆粒尺寸為：φ2*5mm，φ3*3mm，φ6*6mm，加料預(yù)熔方便，產(chǎn)品純度99.99-99.999%。并且可提供配套蒸發(fā)舟，蒸發(fā)線圈，坩堝等

貴（gui）金屬材料金顆粒 銀顆粒 鉑顆粒 鈀顆粒

常規(guī)金屬材料鋁顆粒 銅顆粒 鈦顆粒 鎳顆粒 鉻顆粒

合金材料金鍺合金  金鍺鎳合金  金錫合金 鎢鈦合金

配套坩堝銅坩堝 鎢坩堝 鉬坩堝 石墨坩堝 氮化硼坩堝

高純蒸發(fā)料

蒸發(fā)作為PVD技術(shù)的一種，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)中的芯片背面金屬化工藝，中諾新材（北京）科技有限公司作為專業(yè)的PVD薄膜材料供應(yīng)商，可以提供各種規(guī)格的全系列高純金屬蒸發(fā)材料。這些材料可做成絲狀，片狀，顆粒狀。適用于鎢絲籃加熱蒸發(fā)，鎢舟，鉬舟蒸發(fā)，各種坩堝蒸發(fā)等。釕、銠、銥濺射靶材采用高純金屬粉末為原料，通過(guò)粉末冶金鑄錠，并精密機(jī)加工成靶，產(chǎn)品純度可達(dá)99。

同時(shí)，這些材料亦廣泛應(yīng)用于精密合金熔煉、高純化合物制備以及高品質(zhì)晶體制備等領(lǐng)域。