購(gòu)自動(dòng)蝕刻設(shè)備 選精密蝕刻設(shè)備

     金屬蝕刻設(shè)備集自動(dòng)雕刻、自動(dòng)上色、電拋光、電鏤空、時(shí)控、搖擺等式多種功能于一身，功能強(qiáng)大，設(shè)計(jì)精良，濟(jì)南藍(lán)光同茂廠生產(chǎn)的產(chǎn)品是金屬及標(biāo)牌加工行業(yè)一款新星。事實(shí)上，許多的氨性蝕刻液產(chǎn)品都含有一價(jià)銅離子的特別配位基(一些凌亂的溶劑)，其效果是下降一價(jià)銅離子(這些就是他們的產(chǎn)品具有高反應(yīng)才華的技能竅門),可見(jiàn)一價(jià)銅離子的影響是不小的。多種功能同時(shí)進(jìn)行，加工產(chǎn)品速度快，質(zhì)量高，加工產(chǎn)品千變?nèi)f化，標(biāo)牌蝕刻設(shè)備替代傳統(tǒng)的酸堿工藝，對(duì)人體沒(méi)有任何傷害,環(huán)保,安全,更加人性化.銅板蝕刻設(shè)備采用先進(jìn)的獨(dú)創(chuàng)技術(shù)全自動(dòng)化設(shè)計(jì)，省時(shí)省力做工精準(zhǔn) 適合批量工廠生產(chǎn)。

     濟(jì)南藍(lán)光同茂標(biāo)牌設(shè)備廠是專業(yè)從事各種工藝禮品設(shè)備、獎(jiǎng)牌制作設(shè)備的研究開(kāi)發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、生產(chǎn)銷售為一體的高新技術(shù)開(kāi)發(fā)有限公司。在線條上方覆蓋著的錫或鉛錫抗蝕層向兩頭延伸，構(gòu)成了“沿”，把小部分感光膜蓋在了“沿”下面。主要經(jīng)營(yíng)多功能金屬標(biāo)牌設(shè)備、獎(jiǎng)牌設(shè)備、銘牌設(shè)備、金卡設(shè)備、電雕刻設(shè)備、打標(biāo)設(shè)備、腐蝕設(shè)備、蝕刻設(shè)備、標(biāo)牌設(shè)備、標(biāo)示標(biāo)牌設(shè)備、電鍍?cè)O(shè)備、電子上色設(shè)備金屬刻字設(shè)備等廣告設(shè)備。

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多功能金屬標(biāo)牌-鏤空蝕刻設(shè)備制作

     濟(jì)南藍(lán)光同茂是生產(chǎn)無(wú)污染、環(huán)保型的電刻標(biāo)牌設(shè)備。蝕刻液可長(zhǎng)時(shí)間不用更換液體經(jīng)通電后自動(dòng)還原，液體清澈；蝕刻的金屬就象鏡面一樣的平，無(wú)任何麻點(diǎn)；蝕刻液無(wú)溫度的變化。標(biāo)牌蝕刻設(shè)備電流量大，蝕刻400*600mm不銹鋼牌 2分鐘搞定，蝕刻400*2400mm不銹鋼吊牌8-10分鐘左右搞定， 還可以實(shí)施大面積噴淋，一個(gè)僅90CM*40CM的槽可蝕刻2.4米金屬材料， 不站場(chǎng)地；在同行業(yè)中顯示出無(wú)法比的穩(wěn)定性能，槽液經(jīng)脈沖通斷補(bǔ)充還原其化學(xué)成分；從而達(dá)到經(jīng)濟(jì)、排放量少、安全穩(wěn)定的獨(dú)特之處。是當(dāng)今國(guó)內(nèi)外標(biāo)牌行業(yè)替代的優(yōu)質(zhì)環(huán)保產(chǎn)品。全自動(dòng)標(biāo)牌設(shè)備廠家供應(yīng)-新型金屬蝕刻機(jī)的優(yōu)勢(shì)新型金屬蝕刻設(shè)備優(yōu)點(diǎn):設(shè)備整機(jī)性能穩(wěn)定,可以連續(xù)24小時(shí)開(kāi)機(jī)。 

      歡迎自帶金屬前來(lái)試機(jī)、購(gòu)機(jī)。公司將現(xiàn)場(chǎng)技術(shù)指導(dǎo)，提供全套技術(shù)資料，提供各地原材料信息，全自動(dòng)蝕刻設(shè)備產(chǎn)品實(shí)行一年保修，終身維護(hù)，代辦托運(yùn)。

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     濟(jì)南藍(lán)光同茂蝕刻設(shè)備維護(hù)的最要害要素就是要保證噴嘴的清潔，無(wú)阻塞物而使噴射曉暢。阻塞物或結(jié)渣會(huì)在噴射壓力效果下沖擊版面。假定噴嘴不干凈，那么會(huì)構(gòu)成蝕刻不均勻而使整塊PCB作廢。

明顯地，設(shè)備的維護(hù)就是替換破損件和磨損件，包含替換噴嘴，噴嘴相同存在磨損的問(wèn)題。除此之外，更為要害的問(wèn)題是堅(jiān)持蝕刻機(jī)不存在結(jié)渣，在許多情況下都會(huì)呈現(xiàn)結(jié)渣堆積.結(jié)渣堆積過(guò)多，甚至?xí)?duì)蝕刻液的化學(xué)平衡發(fā)作影響。