JS28F256J3F105-鎂光并口NOR閃存
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JS28F256J3F105 MICRON(美光)NOR閃存 原廠原裝
生產商:MICRON(美光科技)
產品類別:NOR型閃存
系列:-
存儲格式:閃存
存儲技術:FLASH-NOR
存儲容量:256Mb
存儲接口:并聯
時鐘頻率:-
寫入時間:105ns
訪問時間:105ns
電壓-電源:2.7V ~ 3.6V
工作溫度:-40°C ~ 85°C
安裝類型:表面貼裝
封裝/外殼:TSOP-56
原廠包裝:托盤
零件狀態(tài):批量生產
產品用途:MICRON(美光)的NOR閃存芯片主要應用于服務器,智能電視,視頻監(jiān)控,汽車電子,物聯網設備,網絡機頂盒,通信設備,平板電腦等消費類以及工業(yè)類電子設備,是全球第二大存儲器供應商。我司供應的產品包含MICRON的DRAM,NAND,NOR閃存,eMMC,eMCP嵌入式存儲等全系列存儲產品。
NOR閃存的基本原理
NAND與NOR兩者在基本的數據存儲方式和操作機理上都大致相同。閃存以單晶體管作為二進制信號的存儲單元,它的結構與普通的半導體晶體管(場效應管)非常類似,區(qū)別在于閃存的晶體管加入了“浮動柵(floating gate)”和“控制柵(Control gate)”—前者用于貯存電子,表面被一層硅氧化物絕緣體所包覆,并通過電容與控制柵相耦合。當負電子在控制柵的作用下被注入到浮動柵中時,該NAND單晶體管的存儲狀態(tài)就由1變成0。相對來說,當負電子從浮動柵中移走后,存儲狀態(tài)就由0變成1;而包覆在浮動柵表面的絕緣體的作用就是將內部的電子“困住”,達到保存數據的目的。如果要寫入數據,就必須將浮動柵中的負電子全部移走,令目標存儲區(qū)域都處于1狀態(tài),這樣只有遇到數據0時才發(fā)生寫入動作—但這個過程需要耗費不短的時間,導致不管是NAND還是NOR型閃存,其寫入速度總是慢于數據讀取的速度。雖然基本原理相同,但閃存可以有不同的電荷生成與存儲方案。其中應用最廣泛的是“通道熱電子編程(Channel Hot Electron,CHE)”,該方法通過對控制柵施加高電壓,使傳導電子在電場的作用下突破絕緣體的屏障進入到浮動柵內部,反之亦然,以此來完成寫入或者抹除動作;另一種方法被稱為“Fowler-Nordheim(FN)隧道效應法”,它是直接在絕緣層兩側施加高電壓形成高強度電場,幫助電子穿越氧化層通道進出浮動柵。NOR閃存同時使用上述兩種方法,CHE用于數據寫入,支持單字節(jié)或單字編程;FN法則用于擦除,但NOR不能單字節(jié)擦除,必須以塊為單位或對整片區(qū)域執(zhí)行擦除操作,由于擦除和編程速度慢、塊尺寸也較大,使得NOR閃存在擦除和編程操作中所花費的時間很長,無法勝任純數據存儲和文件存儲之類的應用,但它的優(yōu)點是可支持代碼本地直接運行;其次,NOR閃存采用隨機存儲方式,設備可以直接存取任意區(qū)域的數據,因此NOR閃存底部有大量的信號引腳,且每個單晶體管都需要輔助讀寫的邏輯,晶體管利用效率較低、容量不占優(yōu)勢。而NAND閃存采用FN法寫入和擦除,且采用一種“頁面-塊”尋址的統一存儲方式,單晶體管的結構相對簡單,存儲密度較高,擦除動作很快,但缺陷在于讀出性能平平且不支持代碼本地執(zhí)行。另一個不可忽視的地方在于,NAND閃存很容易出現壞塊,制造商通過虛擬映射的方式將其屏蔽。但是,NOR型閃存理論擦寫次數約為10萬次,NAND型閃存理論擦寫次數約為100萬次,壽命上NAND型閃存要占優(yōu)勢。
NOR閃存特點
NOR型閃存更像內存,有獨立的地址線和數據線,NOR型閃存的基本存儲單元是bit,用戶可以隨機訪問任何一個bit的信息。
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