貴金屬靶材尺寸

金、銀、鉑、鈀濺射靶材通過熔煉提純、澆鑄成錠，鍛造軋制和精密機(jī)加工制造而成。純度均可達(dá)到99.99%，主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、太陽能光伏、平面顯示、磁學(xué)等行業(yè)。

釕、銠、銥濺射靶材采用高純金屬粉末為原料，通過粉末冶金鑄錠，并精密機(jī)加工成靶，產(chǎn)品純度可達(dá)99.95%。主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、磁學(xué)等行業(yè)。

常規(guī)靶材有：

高純金 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鉑 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鈀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純釕 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銠 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純銥 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

常規(guī)厚度1-6mm

可定制加工的圓靶方靶，可提供靶材綁定服務(wù)。

高純金屬蒸發(fā)材料

      蒸發(fā)作為PVD技術(shù)的一種，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)中的芯片背面金屬化工藝，作為專業(yè)的PVD薄膜材料供應(yīng)商，中諾新材可以提供各種規(guī)格的全系列高純金屬蒸發(fā)材料。同時(shí)，這些材料亦廣泛應(yīng)用于精密合金熔煉、高純化合物制備以及高品質(zhì)晶體制備等領(lǐng)域。

部分產(chǎn)品如下：

材料純度(%)狀態(tài)

高純鋁(Al)99.999-99.9999顆粒 粉末 絲狀 片狀  

高純銅(Cu)99.99-99.9999顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鈦(Ti)99.5-99.999顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鎳(Ni)99.9-99.999顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鉻(Cr)99.5-99.99顆粒 粉末

高純鈷(Co)99.95-99.99顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鐵(Fe)99.95-99.99顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鎂(Mg)99.95-99.99顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鉿(Hf)99.95顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鋯(Zr)99.5-99.95顆粒 粉末 塊狀

高純銦(In)99.995-99.9999,顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鉭(Ta)99.95-99.99顆粒 粉末 絲狀，片狀

高純鈮(Nb)99.95-99.99顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鉛(Pb)99.99-99.999顆粒 粉末 片狀

高純硒(Se)99.99-99.9999顆粒 粉末

高純碲(Te)99.99-99.9999顆粒 粉末

高純鍺(Ge)99.9999顆粒 粉末 片狀

高純硅(Si)99.9999顆粒 粉末 片狀

高純錫(Sn)99.99-99.999顆粒 粉末 絲狀 片狀

高純鋅(Zn)99.99-99.9999顆粒 粉末 片狀

中諾新材分析測(cè)試設(shè)備——精密低電阻測(cè)試儀                                          

  精密電阻測(cè)試儀是一種高精度寬量程、采用高性能微處理器控制的精密電阻測(cè)試儀。它可以量測(cè)0.001Ω·CM～100Ω·CM的電阻

基本準(zhǔn)確度：0.01%

200000數(shù)顯示位數(shù)

十一個(gè)量程自動(dòng)或手動(dòng)測(cè)試輸出電流3A。

提供0.1μΩ ~ 110MΩ測(cè)試范圍。

150次/秒，10次/秒，2次/秒的測(cè)試速度。