高純蒸發(fā)料

蒸發(fā)作為PVD技術(shù)的一種，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)中的芯片背面金屬化工藝，中諾新材（北京）科技有限公司作為專業(yè)的PVD薄膜材料供應(yīng)商，可以提供各種規(guī)格的全系列高純金屬蒸發(fā)材料。這些材料可做成絲狀，片狀，顆粒狀。適用于鎢絲籃加熱蒸發(fā)，鎢舟，鉬舟蒸發(fā)，各種坩堝蒸發(fā)等。

同時(shí)，這些材料亦廣泛應(yīng)用于精密合金熔煉、高純化合物制備以及高品質(zhì)晶體制備等領(lǐng)域。

脆性，難熔的金屬材料，我公司采用高純度粉末為原料，通過熱壓、燒結(jié)、熱等靜壓等工藝成錠，經(jīng)過熱處理，機(jī)械處理及精密的機(jī)加工工藝，制得晶粒細(xì)?。ㄆ淦骄Я３叽?lt;100μm），組織均勻，致密度高的高品質(zhì)靶材。 

常規(guī)產(chǎn)品如下：

商品名稱純度(%)常規(guī)尺寸

高純鉻 靶材99.5   99.95常規(guī)現(xiàn)貨靶材尺寸：φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

靶材常規(guī)厚度2-6mm

可定制加工不同尺寸的圓靶、方靶

高純鎢 靶材99.95  99.999

高純鉬 靶材99.95  99.99

高純鉭 靶材99.95  99.99

高純鈮 靶材99.95  99.99

中諾新材研發(fā)介紹：

1. 研發(fā)種類：各種比例的金屬合金、各種比例的陶瓷化合物摻雜、二元混合，三元混合，四元混合等多元混合材料。

2. 研發(fā)材料規(guī)格：靶材（圓靶 平面靶 旋轉(zhuǎn)靶 異形靶）、顆粒、圓柱、絲、棒、粉末、錠塊，可根據(jù)客戶要求。

3，研發(fā)設(shè)備：

1. 真空中、高頻熔煉爐

2. 真空懸浮熔煉爐

3. 真空電弧熔煉爐

4. 真空熱壓爐

5. 真空燒結(jié)爐

6. 氣氛燒結(jié)爐

7. 區(qū)熔提純設(shè)備

8. 真空蒸餾設(shè)備

9. 進(jìn)口全套機(jī)械加工設(shè)備