金屬濺射靶材

中諾新材定制加工不同尺寸，不同純度的靶材，產(chǎn)品具備純度高。結(jié)構(gòu)致密，晶粒度小的特點(diǎn)，滿足客戶對(duì)高品質(zhì)靶材的需求。

高純金屬靶材，純度99.9-99.9999%?？商峁﹫A靶，矩形靶，管靶等。

常規(guī)金屬靶材Al，Cu，Ti，Ni，Co，V，W，Mo，Ta，Ni

金屬靶材Ag Au Pt Pd Ru Rh Ir

稀土金屬靶材La Ce Pr Nd Sm Eu Gd Tb Dy Ho Er Tm Yb Lu

非金屬靶材B C Si Ge Se Te

合金靶材Ni-Cr Ni-V Ni-Ti W-Ti Ti-Al Cr-Al NiCrAlY……

以上產(chǎn)品純度99.9-99.9999%?？商峁﹫A靶，矩形靶，管靶等。

高純金屬材料介紹

高純金屬材料是指化學(xué)純度高、雜質(zhì)含量少、與常規(guī)金屬相比具有優(yōu)異的物理化學(xué)性能的新材料，被認(rèn)為是現(xiàn)代高新技術(shù)發(fā)展的基礎(chǔ)，是衡量一個(gè)國家或地區(qū)高新技術(shù)發(fā)展水平的重要指標(biāo)。由于高純材料具有優(yōu)異的物化性能，在半導(dǎo)體、光電學(xué)、電子信息、航天軍等領(lǐng)域應(yīng)用越來越廣泛。

中諾新材專業(yè)生產(chǎn)加工高純金屬靶材，粉末，顆粒等，并可根據(jù)您的需求提供專業(yè)的定制服務(wù)。

高純蒸發(fā)料

蒸發(fā)作為PVD技術(shù)的一種，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)中的芯片背面金屬化工藝，中諾新材（北京）科技有限公司作為專業(yè)的PVD薄膜材料供應(yīng)商，可以提供各種規(guī)格的全系列高純金屬蒸發(fā)材料。這些材料可做成絲狀，片狀，顆粒狀。適用于鎢絲籃加熱蒸發(fā)，鎢舟，鉬舟蒸發(fā)，各種坩堝蒸發(fā)等。

同時(shí)，這些材料亦廣泛應(yīng)用于精密合金熔煉、高純化合物制備以及高品質(zhì)晶體制備等領(lǐng)域。