PC28F256P30BFF 鎂光并口NOR閃存
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PC28F256P30BFF-鎂光并口NOR閃存

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深圳市明銳微科技有限公司

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商品參數
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商品介紹
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聯(lián)系方式
型號 PC28F256P30BFF
品牌 MICRON
封裝 TBGA64
容量 256Mb
包裝 托盤
存儲技術 FLASH - NOR
存儲格式 閃存
存儲類型 非易失
安裝類型 表面貼裝
商品介紹



PC28F256P30BFF MICRON(美光)NOR閃存 原廠原裝


生產商:MICRON(美光科技)

產品類別:NOR型閃存

系列:-

存儲格式:閃存

存儲技術:FLASH-NOR

存儲容量:256Mb

存儲接口:并聯(lián)

時鐘頻率:52MHz

寫入時間:100ns

訪問時間:100ns

電壓-電源:1.7V ~ 2V

工作溫度:-40°C ~ 85°C

安裝類型:表面貼裝

封裝/外殼:TBGA64

原廠包裝:托盤

零件狀態(tài):批量生產

產品用途:MICRON(美光)的NOR閃存芯片主要應用于服務器,智能電視,視頻監(jiān)控,汽車電子,物聯(lián)網設備,網絡機頂盒,通信設備,平板電腦等消費類以及工業(yè)類電子設備,是全球第二大存儲器供應商。我司供應的產品包含MICRON的DRAM,NAND,NOR閃存,eMMC,eMCP嵌入式存儲等全系列存儲產品。


NOR閃存的基本原理

NAND與NOR兩者在基本的數據存儲方式和操作機理上都大致相同。閃存以單晶體管作為二進制信號的存儲單元,它的結構與普通的半導體晶體管(場效應管)非常類似,區(qū)別在于閃存的晶體管加入了“浮動柵(floating gate)”和“控制柵(Control gate)”—前者用于貯存電子,表面被一層硅氧化物絕緣體所包覆,并通過電容與控制柵相耦合。當負電子在控制柵的作用下被注入到浮動柵中時,該NAND單晶體管的存儲狀態(tài)就由1變成0。相對來說,當負電子從浮動柵中移走后,存儲狀態(tài)就由0變成1;而包覆在浮動柵表面的絕緣體的作用就是將內部的電子“困住”,達到保存數據的目的。如果要寫入數據,就必須將浮動柵中的負電子全部移走,令目標存儲區(qū)域都處于1狀態(tài),這樣只有遇到數據0時才發(fā)生寫入動作—但這個過程需要耗費不短的時間,導致不管是NAND還是NOR型閃存,其寫入速度總是慢于數據讀取的速度。雖然基本原理相同,但閃存可以有不同的電荷生成與存儲方案。其中應用最廣泛的是“通道熱電子編程(Channel Hot Electron,CHE)”,該方法通過對控制柵施加高電壓,使傳導電子在電場的作用下突破絕緣體的屏障進入到浮動柵內部,反之亦然,以此來完成寫入或者抹除動作;另一種方法被稱為“Fowler-Nordheim(FN)隧道效應法”,它是直接在絕緣層兩側施加高電壓形成高強度電場,幫助電子穿越氧化層通道進出浮動柵。NOR閃存同時使用上述兩種方法,CHE用于數據寫入,支持單字節(jié)或單字編程;FN法則用于擦除,但NOR不能單字節(jié)擦除,必須以塊為單位或對整片區(qū)域執(zhí)行擦除操作,由于擦除和編程速度慢、塊尺寸也較大,使得NOR閃存在擦除和編程操作中所花費的時間很長,無法勝任純數據存儲和文件存儲之類的應用,但它的優(yōu)點是可支持代碼本地直接運行;其次,NOR閃存采用隨機存儲方式,設備可以直接存取任意區(qū)域的數據,因此NOR閃存底部有大量的信號引腳,且每個單晶體管都需要輔助讀寫的邏輯,晶體管利用效率較低、容量不占優(yōu)勢。而NAND閃存采用FN法寫入和擦除,且采用一種“頁面-塊”尋址的統(tǒng)一存儲方式,單晶體管的結構相對簡單,存儲密度較高,擦除動作很快,但缺陷在于讀出性能平平且不支持代碼本地執(zhí)行。另一個不可忽視的地方在于,NAND閃存很容易出現壞塊,制造商通過虛擬映射的方式將其屏蔽。但是,NOR型閃存理論擦寫次數約為10萬次,NAND型閃存理論擦寫次數約為100萬次,壽命上NAND型閃存要占優(yōu)勢。


NOR閃存特點

NOR型閃存更像內存,有獨立的地址線和數據線,NOR型閃存的基本存儲單元是bit,用戶可以隨機訪問任何一個bit的信息。


價格說明

我司在愛采購商鋪展示的價格為指導價格或該商品曾經展示的銷售價格,非原價,僅供參考。具體售價以公司銷售代表確認的價格為準。


購買說明

客戶訂購產品之前請聯(lián)系我司銷售代表確認產品的庫存數量,庫存位置,訂貨周期等相關信息。確認信息之后由我司銷售代表通過公司系統(tǒng)生成訂單,交由客戶最后確認簽字后生成正式訂單。




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公司名稱 深圳市明銳微科技有限公司
聯(lián)系賣家 李經理 (QQ:3003567786)
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地址 廣東省深圳市