渦凹氣浮機 山東國禎 淺層氣浮機 渦凹氣浮機原理
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超效淺層的設計

CQJ型超效淺層離子氣浮是集絮凝、氣浮、撇渣、刮泥以一體的氣浮裝置,運用了“淺池理論”及“零速原理”進行設計,停留時間僅需3-5分鐘,強制布水,進出水都是靜態(tài)的,微氣泡與絮粒的粘附發(fā)生在包括接觸區(qū)在內(nèi)的整個氣浮分離過程,浮渣瞬時排出,水體擾動小出水懸浮物低,出渣含固率高,懸浮物去除率可達90%—99.5%以上,COD的去除率可達到65%—90%,色度的去除率可達到70%—95%。氣浮機


溶氣氣浮機構造:

1、氣浮系統(tǒng)集進水、絮凝、分離、集水、出水于一體,與傳統(tǒng)氣浮設備類似,設有一個穩(wěn)流室、溶氣釋放室,使處理性能更穩(wěn)定,效果更優(yōu)越,對于傳統(tǒng)設備改造尤為適宜。

2. 穩(wěn)定室:通過折板反應的原水,流速很高,若直接與溶氣水接觸,會消散微小氣泡,影響氣泡沾附絮塊效果,從而降低氣浮處理效率,若增加了穩(wěn)流室,使湍流的原水動能消耗,勻速進入溶氣水釋放室,從而有力保證了去除效果。

3. 溶氣釋放室:溶氣釋放室與分離室于一個槽體。中間隔開,溶氣水與絮凝完畢的原水在此粘附,緩慢上升,進入氣浮分離室,保證了絮凝塊與微小氣泡的接觸空間與時間,使溶氣水的釋放率達80-10,0%。氣浮機



溶氣系統(tǒng)的技術性能指標

評價溶氣系統(tǒng)的技術性能指標主要有兩個即溶氣效率和單位能耗。到目前為止雙膜理論解釋氣體傳質(zhì)于液體還是比較接近于實際的。根據(jù)雙膜理論,對于難溶氣體決定傳質(zhì)過程的主要阻力來自液膜,而氣膜中的傳質(zhì)阻力與之相比,可以忽略而不計。即要強化溶氣過程,除應有足夠的傳質(zhì)推動力外,關鍵在于擴大液相界面或減薄液膜厚度。但實際上在紊流劇烈的自由界面上是難以存在穩(wěn)定的層流膜。因此便出現(xiàn)了隨機表面更新理論,這種理論增加了表面更新速率,即在考慮氣液接觸界面?zhèn)髻|(zhì)時,引進了氣相、液相在單位時間內(nèi)因渦流擴散而流進氣、液更新界面的傳質(zhì)因素,從而使理論和實際更為接近。氣浮機



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