金屬濺射靶材

中諾新材定制加工不同尺寸，不同純度的靶材，產(chǎn)品具備純度高。結構致密，晶粒度小的特點，滿足客戶對高品質靶材的需求。

高純金屬靶材，純度99.9-99.9999%。可提供圓靶，矩形靶，管靶等。

常規(guī)金屬靶材Al，Cu，Ti，Ni，Co，V，W，Mo，Ta，Ni

金屬靶材Ag Au Pt Pd Ru Rh Ir

稀土金屬靶材La Ce Pr Nd Sm Eu Gd Tb Dy Ho Er Tm Yb Lu

非金屬靶材B C Si Ge Se Te

合金靶材Ni-Cr Ni-V Ni-Ti W-Ti Ti-Al Cr-Al NiCrAlY……

以上產(chǎn)品純度99.9-99.9999%?？商峁﹫A靶，矩形靶，管靶等。

高純金屬材料介紹

高純金屬材料是指化學純度高、雜質含量少、與常規(guī)金屬相比具有優(yōu)異的物理化學性能的新材料，被認為是現(xiàn)代高新技術發(fā)展的基礎，是衡量一個國家或地區(qū)高新技術發(fā)展水平的重要指標。由于高純材料具有優(yōu)異的物化性能，在半導體、光電學、電子信息、航天軍等領域應用越來越廣泛。

中諾新材專業(yè)生產(chǎn)加工高純金屬靶材，粉末，顆粒等，并可根據(jù)您的需求提供專業(yè)的定制服務。

陶瓷化合物是指高純金屬材料的的碳、氮，氧，硫等的化合物，隨著陶瓷化合物材料在高性能陶瓷、發(fā)光材料、光學鍍膜等方向的研究不斷深入，其在電子半導體、太陽能光伏、光學器件、液晶顯示等領域的應用越來越廣泛。

中諾新材專業(yè)生產(chǎn)加工高純陶瓷化合物靶材，粉末，顆粒等，并可根據(jù)您的需求提供專業(yè)的定制服務。用于鍍制不同用途的導電膜，介質膜等