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       濟南藍光同茂蝕刻設(shè)備對蝕刻質(zhì)量的基本要求就是可以將除抗蝕層下面以外的悉數(shù)銅層徹底去除潔凈，止此罷了。從嚴(yán)峻意義上講，假定要地界定，那么蝕刻質(zhì)量有必要包含導(dǎo)線線寬的一致性和側(cè)蝕程度。由于現(xiàn)在腐蝕液的固有特征，不只向下并且對左右各方向都發(fā)作蝕刻效果，所以側(cè)蝕幾乎是不可避免的。

側(cè)蝕問題是蝕刻參數(shù)中常常被提出來談?wù)摰囊豁?它被定義為側(cè)蝕寬度與蝕刻深度之比, 稱為蝕刻因子。在印刷電路工業(yè)中，它的改動規(guī)劃很廣泛，從1：1到1：5。明顯，小的側(cè)蝕度或低的蝕刻因子是最令人滿意的。