金屬濺射靶材

中諾新材定制加工不同尺寸，不同純度的靶材，產(chǎn)品具備純度高。結(jié)構(gòu)致密，晶粒度小的特點，滿足客戶對高品質(zhì)靶材的需求。

高純金屬靶材，純度99.9-99.9999%。可提供圓靶，矩形靶，管靶等。

常規(guī)金屬靶材Al，Cu，Ti，Ni，Co，V，W，Mo，Ta，Ni

金屬靶材Ag Au Pt Pd Ru Rh Ir

稀土金屬靶材La Ce Pr Nd Sm Eu Gd Tb Dy Ho Er Tm Yb Lu

非金屬靶材B C Si Ge Se Te

合金靶材Ni-Cr Ni-V Ni-Ti W-Ti Ti-Al Cr-Al NiCrAlY……

以上產(chǎn)品純度99.9-99.9999%?？商峁﹫A靶，矩形靶，管靶等。

貴金屬產(chǎn)品說明

隨著電子，半導(dǎo)體科學(xué)的發(fā)展，貴（gui）金屬以其優(yōu)質(zhì)的性能，應(yīng)用越來越廣泛。中諾新材可提供各種貴（gui）金屬的原材料及金、銀、鉑、鈀、釕，銠，銥的靶材和蒸發(fā)材料，價格與國內(nèi)市場價格同步。并可對金鉑等貴（gui）金屬材料進(jìn)行二次回收。中諾新材可提供的貴（gui）金屬材料有：高純金，高純銀，高純鉑，高純鈀，高純釕，高純銠，高純銥。

金、銀、鉑、鈀濺射靶材通過熔煉提純、澆鑄成錠，鍛造軋制和精密機(jī)加工制造而成。純度均可達(dá)到99.99%，主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、太陽能光伏、平面顯示、磁學(xué)等行業(yè)。

釕、銠、銥濺射靶材采用高純金屬粉末為原料，通過粉末冶金鑄錠，并精密機(jī)加工成靶，產(chǎn)品純度可達(dá)99.95%。主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、磁學(xué)等行業(yè)。

中諾新材可根據(jù)您的需求，為您定制不同化合物，不同比例的摻雜靶材。通過球磨制粉，共沉積制粉，真空熱壓燒結(jié)，常壓燒結(jié)等工藝，可保證靶材摻雜比例準(zhǔn)確，摻雜相單一，致密度高。

部分定制靶材如下：

氧化銦錫 ITO In2O3:SnO2=90:10 wt%

氧化鋅鋁 AZO ZnO:Al2O3=98:2 wt%

銅銦硒 CIGS Cu:In:Ga:Se=1:0.7:0.3:2 at%

氧化鋅摻雜氧化鎂等

氧化銦鋅 IGZO In:Ga:Zn=2:2:1 at%

鈦鋯酸鉛 PZT Pb1.2Zr0.52Ti0.48O3

鍺銻碲 GST Ge:Sb:Te=2:2:5 at%