濟(jì)南藍(lán)光同茂蝕刻設(shè)備曝光機(jī)現(xiàn)在大約有幾種，一是傳統(tǒng)風(fēng)冷小功率的曝光機(jī)，像這種曝光機(jī)精度差，效率低，只適合做簡略的標(biāo)牌產(chǎn)品。

若要做高精度的產(chǎn)品，建議大功率水冷式曝光機(jī)，或LED平行曝光機(jī)。此兩款機(jī)型各有優(yōu)缺點(diǎn)，水冷式曝光機(jī)功率大，能耗高。而LED曝光機(jī)是屬冷光源曝光機(jī)，能耗低，精度也好，不過就是價(jià)格比較高。但這兩款機(jī)型效率高，光源也安穩(wěn)，產(chǎn)品良率也高。但具體選用哪個(gè)可以根據(jù)各自需求進(jìn)行挑選。

為了除去厚的氧化膜（鐵銹，氧化皮），可以進(jìn)行相對強(qiáng)的酸處理數(shù)小時(shí)的處理。一般添加以避免溢出環(huán)（酸洗過量，酸腐蝕）至除去氧化皮和基材露出的部分。當(dāng)超材料發(fā)生在鋼材上時(shí)，難以溶解在酸中的C和Si堅(jiān)持為黑色細(xì)粉末狀污跡。簡略發(fā)生污點(diǎn)問題，特別是在高碳鋼中。氧化皮是在材料加工進(jìn)程（熱處理/切開）中發(fā)生的具有變色的相對厚的氧化膜，并且與構(gòu)成進(jìn)程中的污點(diǎn)不同。

在一些情況下，它與酸洗（酸洗）（浸漬）大約1分鐘或更短時(shí)間不同，以通過酸浸除去薄氧化膜。

藍(lán)光同茂廣告標(biāo)牌設(shè)備公司是一家集研發(fā)、生產(chǎn)和銷售于一體的國內(nèi)高新企業(yè)。產(chǎn)品范圍包括：金屬雕刻機(jī),標(biāo)牌機(jī),銘牌機(jī),腐蝕機(jī),蝕刻機(jī),標(biāo)牌設(shè)備,電鍍設(shè)備,電鑄機(jī),電刷鍍機(jī),鍍金機(jī),堆金機(jī),電泳設(shè)備,上色機(jī),版畫機(jī),打標(biāo)機(jī),拋光機(jī),鋁氧化著色設(shè)備,數(shù)碼標(biāo)牌設(shè)備,3D彩印打印機(jī),大型3D熱轉(zhuǎn)移機(jī)，立體玻雕機(jī)等，我公司致力于高質(zhì)量的產(chǎn)品和完善的技術(shù)服務(wù)活躍在各個(gè)領(lǐng)域。

含鹵素離子化合物的電解質(zhì)溶液都易于引發(fā)點(diǎn)蝕，但以C1一最甚，Br一次之，

I一對點(diǎn)蝕影響較小。

酸性環(huán)境中F一對鋁合金表面鈍化膜有很強(qiáng)的穿透性，同時(shí)這種穿透性很容易在表面迅速均勻展開。如條件控制得當(dāng)，這一特性對鋁合金的紋理蝕刻很有利。

②含氧化性金屬離子的氯化物電解質(zhì)溶液的影響。含氧化性金屬離子的氯化物(如CuCI:及FeC13等)電解質(zhì)溶液，對鋁合金表面點(diǎn)蝕有很大影響。而含非氧化性金屬子的氯化物(如NaCI, KCI等)電解質(zhì)溶液雖然對點(diǎn)蝕也有影響，但程度比前者要小得多。這是由于在進(jìn)行高價(jià)金屬離子還原為低價(jià)金屬離子的反應(yīng)時(shí)，氧化還原電位比點(diǎn)蝕電位高，因而加速了點(diǎn)蝕的形成。

一些氧化性陰離子和某些活性有機(jī)離子具有抑制點(diǎn)蝕的作用。對鋁合金點(diǎn)蝕的抑制次序是:NO歹>CrO丁>Ac->甲酸根>so獷。根據(jù)這一特征，在進(jìn)行紋理蝕刻時(shí)，蝕刻液中維持一定的NO歹濃度很有必要，NO矛能調(diào)節(jié)蝕刻液對鋁合金的蝕刻速度，從而控制蝕刻液溫度的穩(wěn)定，保證紋理蝕刻效果的一致性。

③溶液流速的影響。靜止的溶液不利于陽極區(qū)和陰極區(qū)之問的溶液交流，因而易于形成點(diǎn)蝕。相反，若增加流速則會減密蝕的形成。但對于鋁合金的紋理蝕刻需要的是分布均勻、密集的點(diǎn)蝕集合。靜止?fàn)顟B(tài)下只能是局部點(diǎn)蝕作用的增強(qiáng)，而并不利于密集點(diǎn)蝕集合的均勻分布，所以在進(jìn)行紋理蝕刻時(shí)被蝕刻鋁合金表面與電解質(zhì)溶液的相對移動很重要。