高純蒸發(fā)料

蒸發(fā)作為PVD技術(shù)的一種，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)中的芯片背面金屬化工藝，中諾新材（北京）科技有限公司作為專業(yè)的PVD薄膜材料供應(yīng)商，可以提供各種規(guī)格的全系列高純金屬蒸發(fā)材料。這些材料可做成絲狀，片狀，顆粒狀。適用于鎢絲籃加熱蒸發(fā)，鎢舟，鉬舟蒸發(fā)，各種坩堝蒸發(fā)等。

同時(shí)，這些材料亦廣泛應(yīng)用于精密合金熔煉、高純化合物制備以及高品質(zhì)晶體制備等領(lǐng)域。

粉末冶金說明

中諾新材（北京）科技有限公司有專業(yè)的冷壓燒結(jié)設(shè)備，熱壓燒結(jié)設(shè)備，熱等靜壓設(shè)備。采用粉末冶金工藝，經(jīng)過熱處理，機(jī)械處理及精密的機(jī)加工工藝，專業(yè)定制不同配比、不同尺寸的難熔金屬材料及脆性材料的合金靶材。采用該工藝制備的靶材能夠保證準(zhǔn)確的合金配比，組織均勻，致密度高。

部分定制產(chǎn)品如下：鈦鋁合金 鉻鋁合金 鐵錳合金 銥錳合金 鈷鐵硼合金 鎢鈦合金 銅銦硒

中諾新材可提供的常規(guī)陶瓷靶材如下：

氧化鋁靶 Al2O3 99.99%

氧化鉿靶 HfO2 99.99%

氧化鎂靶 MgO 99.99%

氧化硅靶 SiO2 99.999%

氧化鉭靶 Ta2O5 99.99%

氧化鈦靶 TiO2 99.99%

氧化鋅靶 ZnO 99.99%

氟化鎂靶 MgF 99.99%

硫化鋅靶 ZnS 99.99%

氮化鈦靶 TiN 99.9%

氮化鋁靶 AlN 99.9%

氮化硼靶 BN 99.9%

碳化硅靶 SiC 99.9%

常備現(xiàn)貨的靶材尺寸：

φ50.8mm  φ60mm

φ80mm,

φ100mm φ101.6mm

其它尺寸圓靶、方靶可定制

陶瓷靶材質(zhì)脆，受熱不均易碎，推薦綁定銅背靶，以增強(qiáng)靶材導(dǎo)熱性能，提供靶材利用率