貴金屬靶材尺寸

金、銀、鉑、鈀濺射靶材通過(guò)熔煉提純、澆鑄成錠，鍛造軋制和精密機(jī)加工制造而成。純度均可達(dá)到99.99%，主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、太陽(yáng)能光伏、平面顯示、磁學(xué)等行業(yè)。

釕、銠、銥濺射靶材采用高純金屬粉末為原料，通過(guò)粉末冶金鑄錠，并精密機(jī)加工成靶，產(chǎn)品純度可達(dá)99.95%。主要應(yīng)用于電子半導(dǎo)體、磁學(xué)等行業(yè)。

常規(guī)靶材有：

高純金 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鉑 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純鈀 靶材 99.99%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純釕 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm, φ101.6mm

高純銠 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

高純銥 靶材 99.95%φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

常規(guī)厚度1-6mm

可定制加工的圓靶方靶，可提供靶材綁定服務(wù)。

中諾新材產(chǎn)品說(shuō)明

中諾新材的主要產(chǎn)品：

----------金屬（靶材及鍍膜材料）----------

----------合金（靶材及鍍膜材料）----------

----------陶瓷化合物（靶材及鍍膜材料）----------

----------高純金屬、粉體材料----------

----------半導(dǎo)體材料，稀有金屬材料----------

產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于航空航天、科研、LED、電子半導(dǎo)體、平板顯示、太陽(yáng)能光伏、能源汽車(chē)、3D打印等領(lǐng)域。

中諾新材研發(fā)介紹：

1. 研發(fā)種類(lèi)：各種比例的金屬合金、各種比例的陶瓷化合物摻雜、二元混合，三元混合，四元混合等多元混合材料。

2. 研發(fā)材料規(guī)格：靶材（圓靶 平面靶 旋轉(zhuǎn)靶 異形靶）、顆粒、圓柱、絲、棒、粉末、錠塊，可根據(jù)客戶要求。

3，研發(fā)設(shè)備：

1. 真空中、高頻熔煉爐

2. 真空懸浮熔煉爐

3. 真空電弧熔煉爐

4. 真空熱壓爐

5. 真空燒結(jié)爐

6. 氣氛燒結(jié)爐

7. 區(qū)熔提純?cè)O(shè)備

8. 真空蒸餾設(shè)備

9. 進(jìn)口全套機(jī)械加工設(shè)備