金屬濺射靶材

中諾新材定制加工不同尺寸，不同純度的靶材，產(chǎn)品具備純度高。結(jié)構(gòu)致密，晶粒度小的特點，滿足客戶對高品質(zhì)靶材的需求。

高純金屬靶材，純度99.9-99.9999%?？商峁﹫A靶，矩形靶，管靶等。

常規(guī)金屬靶材Al，Cu，Ti，Ni，Co，V，W，Mo，Ta，Ni

金屬靶材Ag Au Pt Pd Ru Rh Ir

稀土金屬靶材La Ce Pr Nd Sm Eu Gd Tb Dy Ho Er Tm Yb Lu

非金屬靶材B C Si Ge Se Te

合金靶材Ni-Cr Ni-V Ni-Ti W-Ti Ti-Al Cr-Al NiCrAlY……

以上產(chǎn)品純度99.9-99.9999%?？商峁﹫A靶，矩形靶，管靶等。

脆性，難熔的金屬材料，我公司采用高純度粉末為原料，通過熱壓、燒結(jié)、熱等靜壓等工藝成錠，經(jīng)過熱處理，機械處理及精密的機加工工藝，制得晶粒細小（其平均晶粒尺寸<100μm），組織均勻，致密度高的高品質(zhì)靶材。 

常規(guī)產(chǎn)品如下：

商品名稱純度(%)常規(guī)尺寸

高純鉻 靶材99.5   99.95常規(guī)現(xiàn)貨靶材尺寸：φ50.8mm, φ60mm,  φ101.6mm

靶材常規(guī)厚度2-6mm

可定制加工不同尺寸的圓靶、方靶

高純鎢 靶材99.95  99.999

高純鉬 靶材99.95  99.99

高純鉭 靶材99.95  99.99

高純鈮 靶材99.95  99.99

中諾新材采用高純化合物粉末為原料，通過常壓燒結(jié)法、真空熱壓法以及熱等靜壓法等工藝成型，經(jīng)過精密的機械加工工藝，制得晶粒細小、組織均勻、致密度高的高品質(zhì)陶瓷化合物靶材，被廣泛應用于太陽能光伏、平面顯示、玻璃鍍膜等領(lǐng)域。

中諾新材可根據(jù)您的需求，為您定制不同化合物，不同比例的摻雜靶材。通過球磨制粉，共沉積制粉，真空熱壓燒結(jié)，常壓燒結(jié)等工藝，可保證靶材摻雜比例準確，摻雜相單一，致密度高。