腐蝕標(biāo)牌是一種傳統(tǒng)的標(biāo)牌，品種有用作儀器儀表面板的噴砂氧化填漆標(biāo)牌，用作車船車牌、設(shè)備編號及各種機(jī)床電器銘牌的腐蝕烘漆標(biāo)牌，用作工業(yè)環(huán)境比較惡劣的機(jī)電產(chǎn)品的銅質(zhì)鍍鋒標(biāo)牌，用作表面、電子儀器表面裝飾的瓷質(zhì)氧化極漆標(biāo)牌，以及高光標(biāo)牌等。這些標(biāo)牌上的圖文早年全都是由液體感光膠（蛋白膠、骨膠、明膠、聚乙烯醇膠等）通過光化學(xué)法閃現(xiàn)的。這種方法雖然具有圖文變形小的利益，但存在制作工序多出產(chǎn)功率低、勞動強(qiáng)度大和耗能多等缺陷。選用絲網(wǎng)印刷方法閃現(xiàn)圖文，可行進(jìn)出產(chǎn)功率數(shù)倍，節(jié)約許多輔佐材料和動力。下面具體介紹腐蝕標(biāo)牌的圖文絲印工藝。

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若點(diǎn)蝕是由活化陰離子(特別是Cl)吸附在表面膜中的某些缺陷處所引起，一旦達(dá)到點(diǎn)蝕電位，其表面氧化膜最薄弱部分的電場強(qiáng)度將高，抓化物陰離子從而得以穿透薄膜，形成氧化物一氧化物。隨后氧化膜發(fā)生局部溶解立即形成點(diǎn)蝕源。由此可見，點(diǎn)蝕電位反映了表面鈍化膜被擊穿的難易程度。

②表面結(jié)構(gòu)的不均勻因素。金屬材料表面結(jié)構(gòu)的不均勻性使表面膜某些部位較為薄弱，成為容易形成點(diǎn)蝕的中心。這些表面不均勻性包括晶界、夾雜物，位錯(cuò)等表面缺陷。在金屬表面露頭的位錯(cuò)也是產(chǎn)生點(diǎn)蝕的敏感部位。如金屬冷加工可增加位錯(cuò)密度，使點(diǎn)蝕的敏感性增加。金屬膜層的這些敏感部位將首先溶解，露出無鈍化膜層的新鮮金屬。溶液中腐蝕性離子迅速吸附在露金

屬表面，從而形成點(diǎn)蝕源。

(2)影響點(diǎn)蝕的主要因素對于紋理蝕刻而言，當(dāng)鋁合金材料一定的情況下，影響點(diǎn)蝕的主要因素有以下幾個(gè)方面。

①溶液成分的影響。實(shí)踐表明，在含C1一的電解質(zhì)溶液中最易引起點(diǎn)蝕。其點(diǎn)蝕電位與電解質(zhì)溶液中C1一濃度、pH值及溫度等都有很大關(guān)系。當(dāng)電解質(zhì)溶液中Cl一濃度增加時(shí)，點(diǎn)蝕電位向負(fù)方向移動;而當(dāng)pH值降低及溫度升高時(shí)，點(diǎn)蝕電位亦向負(fù)方向移動。也就是說以上因素都可增加點(diǎn)蝕發(fā)生的敏感性。

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含鹵素離子化合物的電解質(zhì)溶液都易于引發(fā)點(diǎn)蝕，但以C1一最甚，Br一次之，

I一對點(diǎn)蝕影響較小。

酸性環(huán)境中F一對鋁合金表面鈍化膜有很強(qiáng)的穿透性，同時(shí)這種穿透性很容易在表面迅速均勻展開。如條件控制得當(dāng)，這一特性對鋁合金的紋理蝕刻很有利。

②含氧化性金屬離子的氯化物電解質(zhì)溶液的影響。含氧化性金屬離子的氯化物(如CuCI:及FeC13等)電解質(zhì)溶液，對鋁合金表面點(diǎn)蝕有很大影響。而含非氧化性金屬子的氯化物(如NaCI, KCI等)電解質(zhì)溶液雖然對點(diǎn)蝕也有影響，但程度比前者要小得多。這是由于在進(jìn)行高價(jià)金屬離子還原為低價(jià)金屬離子的反應(yīng)時(shí)，氧化還原電位比點(diǎn)蝕電位高，因而加速了點(diǎn)蝕的形成。

一些氧化性陰離子和某些活性有機(jī)離子具有抑制點(diǎn)蝕的作用。對鋁合金點(diǎn)蝕的抑制次序是:NO歹>CrO丁>Ac->甲酸根>so獷。根據(jù)這一特征，在進(jìn)行紋理蝕刻時(shí)，蝕刻液中維持一定的NO歹濃度很有必要，NO矛能調(diào)節(jié)蝕刻液對鋁合金的蝕刻速度，從而控制蝕刻液溫度的穩(wěn)定，保證紋理蝕刻效果的一致性。

③溶液流速的影響。靜止的溶液不利于陽極區(qū)和陰極區(qū)之問的溶液交流，因而易于形成點(diǎn)蝕。相反，若增加流速則會減密蝕的形成。但對于鋁合金的紋理蝕刻需要的是分布均勻、密集的點(diǎn)蝕集合。靜止?fàn)顟B(tài)下只能是局部點(diǎn)蝕作用的增強(qiáng)，而并不利于密集點(diǎn)蝕集合的均勻分布，所以在進(jìn)行紋理蝕刻時(shí)被蝕刻鋁合金表面與電解質(zhì)溶液的相對移動很重要。